[发明专利]记录膜、光学信息记录介质以及溅射靶

说明书

本申请是申请日为2006年2月7日、申请号为200610006826.4的申请的分案申请。

技术领域

本发明属于涉及在光学信息记录介质中使用的记录膜、光学信息记录介质以及溅射靶的技术领域，更具体而言，涉及一种在不同于现有有机染料的光学信息记录介质中使用的记录膜以及使用这种属于与光学信息记录介质有关的技术领域的记录膜的光学信息记录介质，所述记录膜用于一次性写入的光学信息记录介质如CD-R、DVD-R、一次性写入的蓝光光盘、一次性写入的HD DVD，等等。

背景技术

光盘包括几种类型并且考虑到记录/再现原理，它们通常区分为只读、一次性写入类、可重复写入类这三种类型。

其中，一次性写入类型的磁盘具有这样一种结构，其中在透明塑料基底上涂敷偶氮或花青类型的有机染料作为记录层，并且在其上形成包括Al合金或Ag合金的反射层。

在一次性写入类型的磁盘中，染料记录层的反射率通过由激光辐射使其部分分解和变性来改变，并记录信号。由于染料记录层的分解和变性是不可逆变化，因此在一次性写入类型的磁盘中只能进行一次信号记录，这就是与在同一位置能够反复改写的可重复写入的磁盘的不同之处。

在使用染料的这种一次性写入磁盘中，必须在生产磁盘的过程中使用旋转式涂布机形成染料，因此，涉及到难于控制染料记录层的厚度、难于形成多层结构以及低生产率的问题。

鉴于上述考虑，近年来提出了一种通过真空处理形成无机薄膜的新型磁盘。关于这种无机类型的一次性写入膜，提出了例如使用Te-O-Pd薄膜进行激光加热从而不可逆地改变组织的方法[WO98-09823(日本专利申请10-512489)]，或通过加热使包含作为主要成分的Ge、Si和Sn的层与包含作为主要成分的Cu、Al、Zn、和Ag的层进行混合的方法(JP-A-2004-158145)。

考虑到这个原理，同时也可能使用利用所谓的相变材料如Ge-Sb-Te或Ag-In-Sb-Te的相变类型磁盘作为一次性写入类型的磁盘，但是由于它们具有包括至少4～5层薄膜的复杂结构，因此它们在成本或生产率方面与现有的染料类型一次性写入类型的介质相比没有优势。

发明内容

如上所述，染料记录层的使用涉及难于控制染料记录层的厚度、难于形成多层结构以及低生产率的问题。此外，在使用现有的无机类膜作为记录膜的情况下，它涉及鉴于耐久性(记录保持性)的问题，并且具有例如在防潮性能和耐热性试验之后信号特征变差的问题。

本发明鉴于上述情况而获得，并且欲提供一种具有优异生产率和耐久性(记录保持性)的在光学信息记录介质中使用的记录膜，以及提供这样的一种信息记录介质。

在无机薄膜自身通过激光辐射加热(激光加热)熔融并且物理形成小孔或改变构造而进行记录的体系(在下文中也称为激光加热熔融记录体系)中，该薄膜相当于记录膜。按照这个体系的记录膜具有非常优异的生产率并且也具有优异的耐久性(记录保持性)。因此，上述目的可以在按照该体系可获得表现出良好性能的那些膜作为记录膜(能够进行充分记录的记录膜)的情况下实现。

鉴于上述情况，本发明人在观察激光加热熔融记录体系的同时进行了认真的研究，结果发现，薄膜材料被控制为适当的热导率、光吸收性能和熔融温度(熔点)，就可以使在按照激光加热熔融记录体系的光学信息记录介质中所使用的记录膜具有有利的性能，因而完成了本发明。上述目的可以根据本发明获得。

如上所述完成并且能够获得上述目的的本发明涉及一种在光学信息记录介质中使用的记录膜、光学信息记录介质以及溅射靶，其包括在根据本发明的第一个至第九特征的光学信息记录介质中使用的记录膜、根据本发明的第十个至第十六个特征的光学信息记录介质以及根据本发明的第十七个至第二十五个特征的溅射靶，并且它们构成如下。

也就是说，本发明第一特征的用于光学信息记录介质的记录膜具有0.8W/Kcm或更小的热导率、对波长为0.3μm～1.0μm的光的光吸收率为15％或更高以及从300～800℃的熔融温度(本发明的第一特征)。

在本发明第二特征中用于光学信息记录介质的记录膜是第一特征的记录膜，其中反射率为20％或更高(本发明的第二特征)。