[发明专利]衬底清洁设备

权利要求书

1.一种衬底清洁设备，其特征在于其包括：

至少一个辊抛光单元，其可旋转地接触并按压衬底表面且具有清洁所述衬底表面的抛光辊，且所述辊抛光单元还包含一传感器参考部分；

至少一个修整单元，其提供在所述辊抛光单元附近并处理所述抛光辊的表面；以及

至少一个上/下调节单元，基于接触所述衬底表面的所述抛光辊的所述表面的磨损程度，而独立地使所述辊抛光单元相对于所述衬底上/下移动，其中所述上/下调节单元包括：

检测部分，其基于所述抛光辊的磨损量，根据所述检测部分与所述传感器参考部分之间的相互作用依据相对位移，来检测所述辊抛光单元与所述衬底之间的相对间隔；

上/下驱动部分，其耦合到所述辊抛光单元；以及

控制器，其基于所述检测部分的检测结果来控制所述上/下驱动部分的操作。

2.根据权利要求1所述的衬底清洁设备，其特征在于其中所述辊抛光单元包括：

辊轴，其在所述抛光辊的纵向方向上，从所述抛光辊的两端在相反方向上延伸；以及

旋转驱动部分，其耦合到所述辊轴的任一侧并独立地旋转所述辊轴。

3.根据权利要求2所述的衬底清洁设备，其特征在于其中四个辊抛光单元相对于所述衬底成对地分别提供在前方上侧和下侧以及后方上侧和下侧，且每一对所述辊抛光单元相对于所述衬底通过的空间而彼此分离，且提供在位于所述衬底下侧的所述辊抛光单元中的所述辊轴以及提供在位于所述衬底上侧的所述辊抛光单元中的所述辊轴的长度彼此不同。

4.根据权利要求3所述的衬底清洁设备，其特征在于其中对应于所述四个辊抛光单元的每一者而提供所述修整单元。

5.根据权利要求1所述的衬底清洁设备，其特征在于其中所述修整单元包括：

研磨刀片，其沿着所述抛光辊的所述纵向方向而纵长地提供，并具有选择性地接触所述抛光辊的所述表面并研磨所述抛光辊的所述表面的前导端；以及

刀片驱动部分，其允许所述研磨刀片与所述抛光辊接近或分离，使得所述研磨刀片的所述前导端接触所述抛光辊的所述表面。

6.根据权利要求5所述的衬底清洁设备，其特征在于其中所述刀片驱动部分以相对于垂直方向在一方向上倾斜的角度耦合到所述研磨刀片，使得围绕预定操作轴旋转的所述研磨刀片的前导端接触所述抛光辊的所述表面。

7.根据权利要求1所述的衬底清洁设备，其特征在于其中当所述衬底进入一对所述抛光辊之间或从其间退出时，所述检测部分检测所述抛光辊对之间的相对间隔，且所述控制器基于所述抛光辊对之间的所述相对间隔来确定所述抛光辊对的磨损程度，并控制所述上/下驱动部分的操作。

8.根据权利要求1所述的衬底清洁设备，其特征在于其中所述上/下驱动部分包括：

伺服马达，其由所述控制器控制；

一对上升移动轴，其布置在与沿着所述伺服马达的马达轴的方向垂直的方向上，具有耦合到提供在所述辊抛光单元处的一对所述辊轴的上端，并与所述辊抛光单元一起上/下移动；以及

功率转移部分，其将所述伺服马达的旋转运动转换为所述上升移动轴的垂直线性运动，并转移到所述一对上升移动轴。

9.根据权利要求8所述的衬底清洁设备，其特征在于其中所述功率转移部分包括：

一对耦合件，其分别耦合到所述上升移动轴的下部部分；

横杆，其由所述伺服马达在沿着所述伺服马达的所述马达轴的方向上移动，并具有分别布置在所述耦合件处的两端；以及

凸轮轴，其提供在所述耦合件的端部，并耦合到在倾斜方向上形成在所述横杆的两端的每一者处的槽。

10.根据权利要求1所述的衬底清洁设备，其特征在于其进一步包括支撑至少一个辊抛光单元的主体，其中所述主体包括缓冲控制部件，所述缓冲控制部件控制接触并按压所述衬底的所述抛光辊的接触和按压程度。

11.根据权利要求10所述的衬底清洁设备，其特征在于其中所述缓冲控制部件耦合到所述主体，且是逐一对应于所述辊抛光单元而提供的低摩擦汽缸。