[发明专利]紫外线照射系统和水质量监控装置有效
| 申请号： | 200810082285.2 | 申请日： | 2008-02-29 |
| 公开（公告）号： | CN101254964A | 公开（公告）日： | 2008-09-03 |
| 发明（设计）人： | 海贺信好;中野壮一郎;波多野晶纪 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | C02F1/32 | 分类号： | C02F1/32;G01N21/64;H05B41/36 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 韩宏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 紫外线 照射 系统 水质 监控 装置 | ||
1、一种利用紫外线对水进行消毒的紫外线照射系统，包括：
荧光计，其设置在消毒处理前的处理中的至少一点，所述荧光计连续测量激发光谱峰值波长及/或荧光光谱峰值波长；以及
紫外线照射等级控制设备，其根据所述荧光计得到的所述激发光谱峰值波长和荧光光谱峰值波长中的至少一个控制紫外线照射等级。
2、根据权利要求1所述的紫外线照射系统，
其中，所述紫外线照射等级控制设备根据比例函数、步进函数或者预定函数中的任一个控制所述紫外线照射等级，这取决于所述激发光谱峰值波长及荧光光谱峰值波长中的至少一个。
3、根据权利要求1所述的紫外线照射系统，
其中，所述紫外线照射等级控制设备自动改变控制目标值。
4、根据权利要求1所述的紫外线照射系统，
其中，所述荧光计监控310纳米到350纳米范围内的激发光谱峰值波长或者420纳米到460纳米范围内的荧光光谱峰值波长中的至少一个。
5、根据权利要求1所述的紫外线照射系统，
其中，所述荧光计具有作为激发光源的LED，所述LED发射波长为310纳米到350纳米的光。
6、根据权利要求1所述的紫外线照射系统，
其中，所述荧光计还连续测量荧光强度；以及
其中，所述紫外线照射等级控制设备根据代表所述荧光计得到的荧光强度与所述激发光谱峰值波长和荧光光谱峰值波长中的任一个之间关联的水质量矩阵，控制所述紫外线照射等级。
7、根据权利要求6所述的紫外线照射系统，
其中，所述紫外线照射等级控制设备根据比例函数、步进函数或者预定函数中的任一个控制所述紫外线照射等级，这取决于所述激发光谱峰值波长及荧光光谱峰值波长中的至少一个。
8、根据权利要求6所述的紫外线照射系统，
其中，所述紫外线照射等级控制设备自动改变控制目标值。
9、根据权利要求6所述的紫外线照射系统，
其中，所述荧光计监控310纳米到350纳米范围内的激发光谱峰值波长或者420纳米到460纳米范围内的荧光光谱峰值波长中的至少一个。
10、根据权利要求6所述的紫外线照射系统，
其中，所述荧光计具有作为激发光源的LED，所述LED发射波长为310纳米到350纳米的光。
11、用于对待监控的水质量进行监控的水质量监控装置，包括：
荧光计，其测量处理前的水的激发光谱峰值波长及/或其荧光光谱峰值波长；以及
清洁度计算设备，其根据所述荧光计获得的所述激发光谱峰值波长和/或荧光光谱峰值波长计算所述处理前的水的清洁度。
12、根据权利要求11所述的水质量监控装置，
其中，所述荧光计具有作为激发光源的LED，所述LED发射波长为310纳米到350纳米的光。
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