[发明专利]一种改良电流扩展层结构的高效发光二极管及其制造方法有效
申请号: | 200810072027.6 | 申请日: | 2008-10-27 |
公开(公告)号: | CN101388430A | 公开(公告)日: | 2009-03-18 |
发明(设计)人: | 蔡建九;张银桥;张双翔;王向武 | 申请(专利权)人: | 厦门乾照光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 厦门市新华专利商标代理有限公司 | 代理人: | 李 宁 |
地址: | 361000福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 改良 电流 扩展 结构 高效 发光二极管 及其 制造 方法 | ||
1.一种改良电流扩展层结构的高效发光二极管,其特征在于:N-GaAs衬底上外延的材料自下而上依次包括n-GaAs缓冲层、AlAs/AlxGa1-xAs或AlInP/(AlxGa1-x)yIn1-yP布拉格反射层、n-(AlxGa1-x)yIn1-yP下限制层、非掺杂(AlxGa1-x)yIn1-yP有源区、p-(AlxGa1-x)yIn1-yP上限制层、p++AlxGa1-xAs和p-GaP组合电流扩展层,p++AlxGa1-xAs在下面为第一电流扩展层,p-GaP在上面为第二电流扩展层,其中,AlxGa1-xAs的x取值范围是0.35≤x≤0.7,(AlxGa1-x)yIn1-yP的x取值范围是0.6≤x≤1,y取值范围是0.45≤y≤0.55。
2.如权利要求1所述一种改良电流扩展层结构的高效发光二极管,其特征在于:所述p++AlxGa1-xAs第一电流扩展层厚度为5~500nm,p-GaP第二电流扩展层厚度为0.3~15μm。
3.如权利要求1所述一种改良电流扩展层结构的高效发光二极管,其特征在于:所述p++AlxGa1-xAs第一电流扩展层中掺杂碳C元素,掺杂浓度大于1×1019,p-GaP第二电流扩展层中掺杂镁Mg或锌Zn或碳C元素,掺杂浓度为1×1018~1×1020。
4.如权利要求3所述一种改良电流扩展层结构的高效发光二极管,其特征在于:所述含碳C元素的物质是四氯化碳CCl4、四溴化碳CBr4或含碳元素的金属有机源。
5.一种改良电流扩展层结构的高效发光二极管制造方法,其特征在于:在生长完AlGaInP材料层后,采用金属有机物化学气相沉积技术,将III族有机源三甲基镓、三甲基铝和V族气态源砷烷同时通入反应腔体,让其在580~800℃的高温下发生分解,铝Al、镓Ga和砷As原子结合生成第一电流扩展层AlxGa1-xAs材料,通过控制三甲基镓、三甲基铝通入的摩尔流量来控制铝Al组分x,0.35≤x≤0.7,同时,通过输入含碳元素的物质形成P型掺杂材料;在AlxGa1-xAs结束后,系统气流切换为三甲基镓和磷烷,并通入镁Mg或锌Zn或碳C,在580~800℃的高温下分解沉淀形成第二电流扩展层GaP材料。
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