[发明专利]一种聚酰亚胺树脂、使用其制作的挠性覆铜板及其制作方法

权利要求书

1、一种聚酰亚胺树脂，其特征在于，由聚酰胺酸、TEOS、水及硅烷偶联剂组成，其中，聚酰胺酸由二胺单体与二酐单体在混合溶剂中合成，二胺单体采用p-PDA、ODA，二酐单体采用BPDA、BTDA和TMEG，上述各组分的重量比为：

p-PDA：                    10-20份

ODA：                      3-10份

BPDA：                     20-40份

BTDA：                     10-20份

TMEG：                     5-10份

TEOS：                     5-40份

硅烷偶联剂：               0-8份

水：                       3-15份

2、如权利要求1所述的聚酰亚胺树脂，其特征在于，所述混合溶剂为NMP和DMAC的混合溶剂。

3、如权利要求1所述的聚酰亚胺树脂，其特征在于，所述硅烷偶联剂为KH-560。

4、如权利要求1所述的聚酰亚胺树脂，其特征在于，所述二胺和二酐的摩尔比控制在0.9～1.1。

5、一种使用如权利要求1所述的聚酰亚胺树脂制作挠性覆铜板的方法，其特征在于，包括下述步骤：

步骤一，称取所需含量比的二胺单体p-PDA、ODA与二酐单体BPDA、BTDA及TMEG，在混合溶剂NMP和DMAC中反应合成聚酰胺酸；

步骤二，在聚酰胺酸中添加所需含量比的四乙氧基硅烷、水和硅烷偶联剂，得到纳米二氧化硅杂化聚酰亚胺树脂；

步骤三，将所合成的聚酰亚胺树脂均匀涂敷于铜箔上；

步骤四，在烘箱中以80～170℃下干燥1～30分钟；

步骤五，再在氮气保护烘箱中，在80℃，120℃，185℃，220℃～260℃，350℃～380℃下各进行2～60分钟的阶段性热处理进行亚胺化，在铜箔上形成纳米二氧化硅杂化聚酰亚胺层。

6、如权利要求5所述的聚酰胺酸制作的挠性覆铜板的方法，其特征在于，步骤一中的反应在搅拌中进行，并充氮气保护。

7、如权利要求5所述的聚酰胺酸制作的挠性覆铜板的方法，其特征在于，步骤三中聚酰亚胺树脂的涂敷厚度为9～25微米。

8、如权利要求5所述的聚酰胺酸制作的挠性覆铜板的方法，其特征在于，步骤三中采用的铜箔为18微米固尔德压延铜箔。

9、一种使用如权利要求5所述的方法制作的挠性覆铜板，其特征在于，为两层挠性覆铜板，包括铜箔及设于铜箔上的所述纳米二氧化硅杂化聚酰亚胺层。