[发明专利]连续锁模近场光腔衰荡光谱分析装置

权利要求书

1.连续锁模近场光腔衰荡光谱分析装置，包括相干光源、入射偏振分光镜、光束调制与控制器、频率调控器、分析控制单元、光学行波高精细度腔、探测偏振分光镜、锁模探测器，信号探测器，其特征在于：光束整形隔离部件、入射偏振分光镜和锁模光束反射镜依次置在相干光源的出射光束光路上，测量光束反射镜设置在入射偏振分光镜的出射s偏振态光束光路上；

在测量光束反射镜的反射光路上依次设置有光学行波高精细度腔和探测偏振分光镜；合成偏振分光镜设置在测量光束反射镜和光学行波高精细度腔之间，位于测量光束反射镜的反射光路与锁模光束反射镜的反射光路的交点处，测量光束反射镜的反射光路与锁模光束反射镜的反射光路以合成偏振分光镜的偏振分光面对称；

光束调制与控制器设置在测量光路上，频率调控器设置在锁模光路上；所述的测量光路为光通过入射偏振分光镜、测量光束反射镜和合成偏振分光镜的路径；所述的锁模光路为光通过入射偏振分光镜、锁模光束反射镜和合成偏振分光镜的路径；

锁模探测器设置在探测偏振分光镜的透射光光路上，信号探测器设置在探测偏振分光镜的反射光光路上；

所述的光学行波高精细度腔为等腰三角形棱镜或等腰梯形棱镜，两个腰为高反射率入射面和高反射率出射面、底面为内全反射面；移动部件与光学行波高精细度腔配合连接；

相干光源、光束调制与控制器、频率调控器、移动部件、锁模探测器和信号探测器均与分析控制单元电连接。

2.如权利要求1所述的连续锁模近场光腔衰荡光谱分析装置，其特征在于：所述的相干光源为半导体激光器、固体激光器、气体激光器、液体激光器的一种。

3.如权利要求1所述的连续锁模近场光腔衰荡光谱分析装置，其特征在于：所述的光束调制与控制器为液晶型空间光调制器。

4.如权利要求1所述的连续锁模近场光腔衰荡光谱分析装置，其特征在于：所述的频率调控器为声光调制器、电光调制器、变频晶体调制器的一种。

5.如权利要求1所述的连续锁模近场光腔衰荡光谱分析装置，其特征在于：所述的锁模探测器和信号探测器为雪崩管。

6.如权利要求1所述的连续锁模近场光腔衰荡光谱分析装置，其特征在于：所述的移动部件为步进电机、压电陶瓷位移器、纳米位移元件中的一种。

7.如权利要求1所述的连续锁模近场光腔衰荡光谱分析装置，其特征在于：所述的光束调制与控制器设置在入射偏振分光镜和测量光束反射镜之间，或设置在测量光束反射镜和合成偏振分光镜之间。

8.如权利要求1所述的连续锁模近场光腔衰荡光谱分析装置，其特征在于：所述的频率调控器设置在入射偏振分光镜和锁模光束反射镜之间，或设置在锁模光束反射镜和合成偏振分光镜之间。