[发明专利]一种去除四氯化锗中含氢杂质的精馏塔

说明书

技术领域

本发明涉及一种在生产光纤用四氯化锗产品中，去除四氯化锗中含氢杂质的精馏塔，特别是去除CH和HCl杂质的精馏塔。属专用设备领域。

背景技术

目前常规的精馏塔可较好地去除金属杂质，如Fe、Co、Cr、Mn、Cu等，但无法有效地去除含氢杂质(如CH、HCl)。单独采用氯化氢气体或无水氯气来提纯四氯化锗，只能去除砷和其他类似的杂质，而不能有效地去除含氢杂质；虽然可通过高温装置在800℃以上的高温下处理四氯化锗，使其中的氢原子被氯气氯化为氯化氢，最终实现对含氢杂质的去除，但该工艺对设备的要求非常高，且操作复杂。

发明内容

本发明的目的在于提供一种去除四氯化锗中含氢杂质的精馏塔，它能够在低于100℃的温度下，高效、便捷地去除四氯化锗中含氢杂质(CH和HCl)，以满足生产光纤用四氯化锗的需要。

本发明去除四氯化锗中含氢杂质的精馏塔的技术方案是：

此精馏塔主要由底部的塔釜(1)、顶部的塔头(3)以及连接塔釜(1)和塔头(3)的塔管(2)组成。

在塔釜(1)顶部留有进料口(4)、气体补给口(5)以及温度监测口(6)，在塔釜(1)中部有紫外线发射器(7)，在塔釜(1)底部有加热管(8)及废料排放口(9)，塔管(2)没有塔板，为一根空管。

塔头(3)设置螺旋状水管(16)、冷却水进口(10)和冷却水出口(11)，塔头(3)最高处有一尾气出口(12)，塔头(3)右下部接有液体收集管(14)，液体收集管(14)与尾气出口(12)由尾气余液回流管(13)连通，且在液体收集管(14)下部接有摆头出料口(15)，摆头出料口(15)的左下部有一回流管(17)通入塔管(2)的上侧部。

紫外线发射器(7)安装在塔釜(1)的中轴线上。整个去除精馏塔为透明体，全部采用石英材料制作。

本发明的有益效果在于：可以直观方便地观察整个杂质去除过程，并在低于100℃温度下进行，结构简单，易操作，安全可靠，杂质去除效率较高。

附图说明

下面结合本发明的附图，进一步详细说明其具体实施方式。

图1为本发明去除四氯化锗中CH和HCl杂质的精馏塔示意图。

图中所示1-塔釜，2-塔管，3-塔头，4-进料口，5-气体补给口，6-温度监测口，7-紫外线发射器，8-加热管，9-废料排放口，10-冷却水进口，11-冷却水出口，12-尾气出口，13-尾气余液回流管，14-液体收集管，15-摆头出料口，16-螺旋状水管，17-回流管

具体实施方式

实施例：精馏塔由底部的塔釜1、上部的塔头3和连通塔釜1和塔头3的中部塔管2构成，在塔釜1内设置有加热管8和紫外线发射器7。在塔釜1顶部留有进料口4和气体补给口5，在塔釜1侧部开有温度监测口6，在塔釜1底部开有废料排放口9。

塔头3设置螺旋状水管16、冷却水进口10和冷却水出口11，塔头3最高处有一尾气出口12，塔头3右下部接有液体收集管14，液体收集管14与尾气出口12由尾气余液回流管13连通，且在液体收集管14下部接有摆头出料口15，摆头出料口15的左下部有一回流管17通入塔管2的上侧部。

整个精馏塔是透明的，全部采用石英材料制作。

使用时，将需要提纯的四氯化锗通过进料口4加入到塔釜1中，经过加热管8进行加温后使四氯化锗沸腾挥发，挥发出来的四氯化锗通过塔管(2)上升到达本精馏塔顶端的塔头(3)，经螺旋状水管(16)冷凝，冷凝后的四氯化锗经尾气余液回流管(13)流入液体收集管(14)内，并通过控制摆头出料口(15)收集或通过回流管(17)回流到塔釜1中。本发明除杂质工艺过程可以在此精馏塔中不断重复循环，直至四氯化锗中杂质含量达到光纤用四氯化锗标准，从摆头出料口15进行正式出料并进行收集合格产品。

冷却水从螺旋状水管(16)的冷却进口10进入循环后从冷却水出口11排出。

温度监测口6对塔釜1中运行温度的实时监测并及时调整加热管，使加热温度达到工艺所需的要求。

在加热过程中，根据工艺需要，可以从塔釜1气体补给口5通入保护气体，避免本发明装置在用于去除含氢杂质过程中四氯化锗被二次污染。

除杂质过程中，需打开紫外线发射器7对四氯化锗进行光照。

本精馏塔塔釜1中提纯后的余液通过废料排放口9排出本精馏塔。

本发明用于光纤用四氯化锗生产中去除杂质CH和HCl，以满足光纤用四氯化锗产品的纯度要求。