[发明专利]一种光纤用四氯化锗的生产方法无效

专利信息
申请号: 200810058153.6 申请日: 2008-03-05
公开(公告)号: CN101234780A 公开(公告)日: 2008-08-06
发明(设计)人: 王洪江;周廷熙;王少龙;钟文;晏勇;彭明清;阎建英;王瑞山;杨光玉;赵华;何斌;赵永波;汪世银;李恒方;李雪寅 申请(专利权)人: 云南驰宏锌锗股份有限公司
主分类号: C01G17/04 分类号: C01G17/04
代理公司: 昆明今威专利代理有限公司 代理人: 刘明哲
地址: 655011*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 一种 光纤 氯化 生产 方法
【说明书】:

技术领域

发明属稀散金属冶金领域,涉及一种高纯度化合物的提纯方法,特别是用于光纤生产的光纤用四氯化锗的提纯方法。

背景技术

高纯四氯化锗是高品级石英系光纤不可缺少的关键原料,用作石英系光纤中的主要掺杂剂,其用途是提高光纤的折射指数,降低光损耗,进而提高光纤的传输距离。由于掺杂剂是进入到光纤纤芯中的,其含量和分布决定着光纤的重要性能指标,其质量如何直接影响着是否能获得高质量的光纤。因此,对四氯化锗中金属杂质(Fe、Co、Cr、Mn、Cu等)和含氢杂质(OH、CH、HCl)的含量要求极低。

目前广泛使用的精馏工艺可较好地去除金属杂质(Fe、Co、Cr、Mn、Cu等),但无法有效地去除含氢杂质(OH、CH、HCl);单独采用氯化氢气体或无水氯气来提纯四氯化锗,只能去除砷和其他类似的杂质,而不能去除含氢杂质;把PCl3或PBr3加到SiCl4,GeCl4和POCl3中并在其中加入Cl2或Br2,使-OH基团的反应形成了HCl(或HBr)和POCl3(或POBr3),然后去除HCl和HBr,从而实现去除四氯化锗中OH杂质和HCl杂质,此技术也无法去除CH杂质;虽然将四氯化锗在1000℃以上的高温下进行处理,使其中的氢原子被氯气氯化成氯化氢,最终实现对含氢杂质的去除,但该工艺对设备的要求非常高,且操作复杂。

发明内容

本发明的目的是针对现有技术存在的不足,提出一种能够有效去除四氯化锗中含氢杂质(OH、CH和HCl)的工艺,从而获得满足光纤生产的光纤用四氯化锗。

本发明的技术方案是:其步骤:

(1)将0.25~2.0∶1的盐酸和四氯化锗加入到蒸馏釜中进行蒸馏,或在单独蒸馏四氯化锗的同时通入HCl气体,直至蒸馏结束,蒸馏温度为76~80℃;

(2)蒸馏出来的溶液经盐酸分离器分离后的四氯化锗溶液存放于储罐中,需静置36h~72h;

(3)将储罐中的四氯化锗溶液排入空塔蒸馏釜中,将四氯化锗溶液温度升高至70~75℃,在不断通入氮气的同时,采用紫外灯进行光照,最后在76~80℃进行精馏操作并转移出产品。

其中:所述盐酸为分析纯盐酸,所述氮气为高纯氮气,通入氮气时间为12h~36h,所述紫外灯功率为40W,产生波长为253.7nm的紫外光。

四氯化锗在常温、常压下为液体,容易挥发,并且具有很强的腐蚀性,在空气中长期暴露,即可吸收空气中的水分而发生化学反应,根据水的摩尔数不同,发生如下反应:GeCl4+H2OGe(OH)Cl3+HCl(C(H2O)<1×10-2mol/L);GeCl4+nH2OGe(OH)nCl4-n+nHCl(n=2,3)(C(H2O)>1×10-2mol/L)。要想得到OH杂质含量较少的四氯化锗,就应该尽可能地增加HCl的浓度,降低H2O含量,采用的方法是将分析纯盐酸与四氯化锗共同蒸馏,由此蒸馏得到的四氯化锗静置36h~72h,可以很好地抑制OH杂质的产生,并使盐酸与四氯化锗很好的分离,减少盐酸在四氯化锗中的溶解度。采用紫外灯进行光照可以使四氯化锗中存在的少量水分解离为H2和O2,紫外灯产生波长为253.7nm紫外光。精馏温度为76~80℃,在室温收集馏出液。经过上述步骤处理可以得到满足光纤生产的光纤用四氯化锗。

本发明与现有技术比较具有:工艺过程简单,操作方便,在一套装置中即可完成所有步骤,可以很好地去除四氯化锗中的含氢杂质,具有较高的工业使用价值。

具体实施方式

实施例1:

(1)将7L盐酸和28L四氯化锗加入到蒸馏釜中进行蒸馏,蒸馏温度为76℃;

(2)蒸馏出来的溶液经盐酸分离器分离后的四氯化锗溶液存放于储罐中,需静置36h;

(3)将储罐中的四氯化锗溶液排入空塔蒸馏釜中,将四氯化锗溶液温度升高至70℃,在不断通入氮气12h的同时,采用紫外灯进行光照,紫外灯功率为40W,产生波长为253.7nm的紫外光。最后进行精馏操作并转移出产品,精馏温度为76℃。

实施例2:

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