[发明专利]电感耦合线圈及电感耦合等离子体发生装置有效
| 申请号： | 200810057125.2 | 申请日： | 2008-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN101500369B | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | 张文雯 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;H05H1/46;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人： | 李伟 |
| 地址： | 100016 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电感 耦合 线圈 等离子体 发生 装置 | ||
1.一种电感耦合线圈，其特征在于，所述线圈包括至少一个多匝数的绕组，并在所述绕组的输出端串联接入一段电感，所述电感上具有一个可移动的电导体滑块，所述电感通过所述电导体滑块接地，用于改变所述线圈上的电流分布；所述线圈中间部分的匝间距大于所述线圈边缘部分的匝间距，所述线圈中心部分的匝间距大于所述线圈边缘部分的匝间距，且小于所述线圈中间部分的匝间距；所述电感的长度大于λ/4且小于λ/2，其中λ为电磁波在所述线圈中传输的波长。
2.如权利要求1所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述电感由至少一段螺旋线构成。
3.如权利要求1所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述电感由至少一段弧形线构成。
4.一种电感耦合等离子体发生装置，所述装置由反应腔室、静电卡盘和电感耦合线圈组成，其特征在于，所述电感耦合线圈包括至少一个多匝数的绕组，并在所述绕组的输出端串联接入一段电感，所述电感上具有一个可移动的电导体滑块，所述电感通过所述电导体滑块接地，用于改变所述电感耦合线圈上的电流分布；所述电感耦合线圈中间部分的匝间距大于所述电感耦合线圈边缘部分的匝间距，所述电感耦合线圈中心部分的匝间距大于所述电感耦合线圈边缘部分的匝间距，且小于所述电感耦合线圈中间部分的匝间距；所述电感的长度大于λ/4且小于λ/2，其中λ为电磁波在所述电感耦合线圈中传输的波长。
5.如权利要求4所述的电感耦合等离子体发生装置，其特征在于，所述电感由至少一段螺旋线构成。
6.如权利要求4所述的电感耦合等离子体发生装置，其特征在于，所述电感由至少一段弧形线构成。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
