[发明专利]光刻机投影物镜波像差在线检测方法无效
| 申请号: | 200810057060.1 | 申请日: | 2008-01-29 |
| 公开(公告)号: | CN101236362A | 公开(公告)日: | 2008-08-06 |
| 发明(设计)人: | 李艳秋;刘克;刘丽辉 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01M11/02 |
| 代理公司: | 北京理工大学专利中心 | 代理人: | 张利萍 |
| 地址: | 100081北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光刻 投影 物镜 波像差 在线 检测 方法 | ||
1.一种光刻机投影物镜波像差在线检测方法,其特征在于:所述方法包括以下步骤:
1)在光刻机(100)上集成基于点衍射干涉原理的干涉仪装置(200),对投影物镜(105)的波像差进行在线检测;
2)调节照明系统(102)的照明视场和部分相干因子σ,使干涉仪装置(200)能够采集到对比度较高的干涉条纹;
3)物方掩模板(203)铬层上刻有一个圆孔(209a)和一个较大的窗口(209b),用来选择特定的两个衍射级次作为测试波和参考波进入投影物镜(105);
4)像方掩模板(204)的铬层上刻有波像差检测元件(210)和系统误差标定元件(211),波像差检测元件(210)包括圆孔(210b)和窗口(210a),系统误差标定元件(211)由两个圆孔(211a)和(211b)组成;
5)将干涉仪装置(200)调节到PSI测量模式,利用像方掩模板(204)的系统误差标定元件(211),标定干涉仪装置(200)的系统误差;
6)将干涉仪装置(200)调节到FTM测量模式,利用像方掩模板(204)的波像差检测元件(210),进行投影物镜(105)全视场波像差的在线检测,得到投影物镜(105)各个视场点36项Zernike表示的波像差,以及投影物镜(105)各个补偿器的调整量;
7)利用干涉仪装置(200)的控制器(208),自动完成投影物镜(105)的像差校正。
2、如权利要求1所述的方法,其特征在于:圆孔(209a)的直径do满足式(1),小于入射光束衍射极限的分辨率:
其中,λ为光源(101)的波长,NAo为投影物镜(105)的物方数值孔径,σ为照明系统(102)的部分相干因子,计算公式为:
其中,NAil为照明系统(102)在掩模板(103)侧的数值孔径;
圆孔(210b)的直径di1满足式(3),小于入射光束衍射极限的分辨率,NAi为投影物镜(105)像方数值孔径:
窗口(210a)的宽度wi取决于待测量的投影物镜出瞳波像差的空间频率f,如式(4)所示:
圆孔(211b)的直径满足式(3),与圆孔(210b)的直径di1相同,圆孔(211a)的直径di2满足式(5),小于投影物镜(105)衍射极限的分辨率。
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