[发明专利]采用量子点型光致发光试剂显现潜手印的方法

说明书

技术领域

本发明属于手印鉴别技术领域，特别涉及多种适于紫外-可见光致发光显现潜手印的方法。

背景技术

手印即人手的皮肤花纹，包括手掌面的乳突花纹(指头纹、指节纹和掌纹)、屈肌褶纹、皱纹及伤疤等。它是目前全世界范围内使用最为普遍的一种人身识别方法和证据形式，它在许多案件的侦查和审判过程都扮演着重要的角色。截至目前，没有一种方法可以完全替代其准确、安全、简便等综合特性。

在手印显现100多年的发展史中，光致发光法是近20多年发展起来的一种新型手印显现方法。因为它具有成本低、安全性高、选择能力强、荧光性好等显著优势，所以颇受法庭科学工作人员的青睐。目前，该方法主要利用传统有机荧光染料对潜手印或“502”熏显后的潜手印进行显现或增强显现，如罗丹明6G、龙胆紫、甲基蓝等。它们的不足之处在于荧光性能(荧光强度、荧光寿命、抗漂白能力、斯托克位移等)有时无法满足陈旧手印的显现要求、同手印残留物的选择性结合能力差、毒害性强。实践当中，往往会产生显现的纹线不清晰、假特征多、反差小、对操作人员健康危胁大等不良后果。

虽然，近年有人提出使用光致发光法结合时间分辨成像技术对某些特殊客体表面潜手印进行显现，以规避背景荧光对光之发光显现结果的干扰；但是这种方法所需条件苛刻、操作复杂、成本较高，难以普及。

此外，手印显现技术中，纳米技术及相关材料扮演的作用越来越重要。树形分子包覆的硫化镉、梯化镉以及硒化镉/硫化锌核壳结构等新型纳米荧光材料先后被引入潜在手印显现的领域中来。它们均是目前广泛运用于生物荧光探针、生物芯片等领域的一种荧光材料，当尺寸减小到纳米级时，其内部电子、空穴数目急剧减少，能带结构由准连续的能带变成分立的能级，因此材料的光跃迁谱线窄化、蓝移、外界光与材料本身的相互作用更为强烈。同传统荧光染料相比，这类荧光材料具有激发光谱宽、发射光谱窄、斯托克位移大、发射波长位置可控等优点。

由于荧光性能方面的强大优势，这类材料成为潜在手印显现方法的主要发展趋势，截至目前，先后出现的纳米荧光材料有纳米硫化镉、纳米硒化镉、纳米锑化镉以及其它核壳结构的纳米材料，但是在发展过程中也存在一些问题需要进一步解决：比如某些新型显现试剂制备成本较高、操作复杂、试剂稳定性欠缺、同手印残留物选择性结合差、显现耗时较长、纹线的清晰程度以及细节特征容易被掩盖、试剂安全性仍存在隐患。

如Menzel等人曾经提出使用末端带有胺基或羧基的树形分子为模板，控制硝酸镉同硫化钠的反应速率，合成低浓度硫化镉纳米显现试剂，对潜手印进行长时间浸泡处理。通过这种方法获得的显现试剂荧光性能和稳定性均比较理想；但是由于显现材料同手印残留物的化学结合速率较低，因此显现过程耗时过长(通常为十几小时)，严重影响工作效率。虽然，Menzel之后曾提出使用二酰亚胺类试剂对上述胺解反应过程进行调节，并以此提高显现速率，但是优化后的显现过程仍然需要较长时间，不适于在实际工作中推广。此外，该方法还要求使用时间分辨成像技术对显现后的手印进行记录，操作难度较大。

发明内容

本发明的目的是为克服已有技术的不足之处，提出采用量子点型光致发光试剂显现潜手印的方法，该方法以量子点为荧光载体，利用量子点的光致发光性能以及同手印残留物特殊的亲和能力，可加快显现速度，并同时提高显现的灵敏度和准确性。

本发明提出一种采用量子点型光致发光试剂显现潜手印的方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)合成硒化镉/硫化镉核壳纳米晶水溶液；

2)制备酸性纳米金水溶液：

3)使用去离子水冲洗载有潜手印的光滑客体0.5～3min，然后将其放入所述步骤2)制备的酸性纳米金水溶液中，常温下浸泡5～15min，然后再次使用去离子水冲洗载有潜在手印的光滑客体0.5～3min；

4)将载有潜在手印的光滑客体置于所述步骤1)合成的硒化镉/硫化镉核壳纳米晶水溶液中，常温下浸泡5～15min，浸泡过程中，还可以100～300次/分钟的频率在水平方向上振荡载有潜在手印的光滑客体，使潜在手印得以显现；

5)潜手印显现后，使用去离子水冲洗载有潜在手印的光滑客体0.5～3min，自然状态下晾干；

6)将载有显现手印的光滑客体置于暗室中，在300～400nm范围内长波紫外光激发下，拍摄成手印图像。

上述步骤1)合成硒化镉/硫化镉核壳纳米晶水溶液，具体可包括以下步骤：