[发明专利]嵌套型磁铁无效

专利信息
申请号: 200810056248.4 申请日: 2008-01-16
公开(公告)号: CN101488390A 公开(公告)日: 2009-07-22
发明(设计)人: 唐靖宇 申请(专利权)人: 中国科学院高能物理研究所
主分类号: H01F7/00 分类号: H01F7/00;H01J37/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 周国城
地址: 100049北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 嵌套 磁铁
【说明书】:

技术领域

发明涉及电磁场技术领域,尤其是一种嵌套型磁铁,用于带电粒子束装置。

背景技术

目前,很多加速器束流的应用需要在靶上形成均匀化的束流。以前采用的方法是利用八极磁铁、十二极磁铁等高阶磁铁,但这类磁铁在孔径较大时极面场强很高而几乎不能应用,采用阶梯场磁铁可以很好的解决这个问题。普通结构的阶梯场磁铁所能提供的磁场分布在台阶部分下降缓慢,不能满足要求,需要采取新的技术来提高台阶部分的陡峭度并在磁铁的中心部分形成一个磁场近似为零的区域。

发明内容

(一)要解决的技术问题

有鉴于此,本发明的主要目的在于提供一种用于带电粒子束装置中的嵌套型磁铁,以克服现有技术存在的缺陷,产生一个阶梯形的磁场分布,使在靶上形成均匀化的束流。

(二)技术方案

为达到上述目的,本发明提供了一种嵌套型磁铁,该磁铁包括:

两个开口相对的Π形主磁铁,用于提供磁场分布;

分别缠绕在该Π形主磁铁横梁上的两个励磁线圈;

两个开口相对的Π形内磁铁,用于改善磁场分布,该两个内磁铁分别位于两Π形主磁铁的空腔内,且该两个内磁铁各有两个线圈,该两个线圈分别位于内磁铁的极头上;

其中,该内磁铁的磁场分布与该主磁铁的磁场分布是相反的,能够将位于主磁铁边缘的磁通吸收到该内磁铁中,缩短边缘磁场的延伸距离并改善磁铁的纵向分布,形成沿纵向为硬边近似的阶梯形的磁场分布。

优选地,所述主磁铁与位于其空腔内的内磁铁组成一组,同一组内的主磁铁和内磁铁开口方向一致,一组为上部分,另一组为下部分,各组开口向内,上下两部分的开口相对,且有一间隙,使上下两部分完全对称。

优选地,所述缠绕在主磁铁横梁上的两个励磁线圈由同一电源供电,所述缠绕在内磁铁极头上的四个线圈由同一电源供电。

(三)有益效果

本发明提供的这种新型的嵌套型磁铁,可以形成类似阶梯形的磁场分布,非常适合于将原始的高斯分布,甚至是很不规则的束流分布,在靶上转换为相对均匀化的束流。

另外,本发明在高功率质子加速器、质子/重离子治癌等医用加速器和很多辐照用加速器上有很好的应用前景。

附图说明

图1是本发明提供的嵌套型磁铁的结构示意图;

图2是利用MAFIA程序得到的嵌套型磁铁在有内磁铁时磁场沿水平轴的分布示意图;

图3是利用MAFIA程序得到的嵌套型磁铁在无内磁铁时磁场沿水平轴的分布示意图;

图中,1为上部主磁铁;1’为下部主磁铁;2为上部内磁铁;2’为下部内磁铁;3为上部主线圈;3’为下部主线圈;4为上部内线圈;4’为下部内线圈。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本发明进一步详细说明。

很多加速器束流的应用需要在靶上形成均匀化的束流,本发明提供的这种新型的嵌套型磁铁(嵌套型阶梯场磁铁),可以形成类似阶梯形的磁场分布,其结构和场分布见图1和图2(图1是本发明提供的嵌套型磁铁的结构示意图,图2是利用MAFIA程序得到的嵌套型磁铁在有内磁铁时磁场沿水平轴的分布示意图),非常适合于将原始的高斯分布(甚至是很不规则的束流分布)在靶上转换为相对均匀化的束流。该嵌套型磁铁在高功率质子加速器、质子/重离子治癌等医用加速器和很多辐照用加速器上有很好的应用前景。

该嵌套型阶梯场磁铁的特点是,将磁铁的作用区域限制在扁长束流截面的长轴方向的边缘部分,从而可以将束流截面的外部粒子折回到内部区域,进而改善束流截面的分布形状。其核心内容有:一是采用反对称的磁场结构,即束流截面的两端分别处在磁场方向相反但强度相等(也可以不相等)的磁场中;二是采用内嵌的磁极和另一组励磁线圈,以明显改变磁场下降的陡峭度,即形成很明显的台阶形磁场分布。

该嵌套型磁铁结构还可以作一个延伸,将内外嵌套的磁铁的磁铁结构变为相邻的结构,以应用到普通的磁铁(包括二极磁铁和四极磁铁等)。无论是二极磁铁还是四极磁铁,都可以在端部增加一块磁铁芯,必要时再增加一组励磁线圈(其励磁功率很小),该铁芯中的磁场分布与主铁芯中的磁场分布是相反的,可以将位于主磁铁边缘的磁通吸收到该附加铁芯中从而显著地缩短边缘磁场的延伸距离并改善磁铁的纵向分布,形成沿纵向为硬边近似的磁场分布,而不是通常的缓慢下降的磁场分布(软边近似)。这样的磁铁设计对某些采用很大孔径的磁铁(如较大磁间隙的二极磁铁和较大孔径的四极磁铁)的束流应用是很有用的,能满足束流动力学设计的需求。

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