[发明专利]NixMg1-xO短波长紫外光探测材料无效
申请号: | 200810051539.4 | 申请日: | 2008-12-05 |
公开(公告)号: | CN101414642A | 公开(公告)日: | 2009-04-22 |
发明(设计)人: | 王新;姜德龙;李野;王国政;付申成 | 申请(专利权)人: | 长春理工大学 |
主分类号: | H01L31/032 | 分类号: | H01L31/032;H01L31/18 |
代理公司: | 长春科宇专利代理有限责任公司 | 代理人: | 曲 博 |
地址: | 130022吉林*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | ni sub mg 波长 紫外光 探测 材料 | ||
技术领域
本发明涉及一种NixMg1-xO短波长紫外光探测材料,属于半导体材料技术领域。
背景技术
由于大气的衰减,太阳辐射通过地球大气层到达地球表面时,波长短于280nm的中紫外辐射会被臭氧层吸收,基本到达不了地球近地表面,使得太阳光的中紫外辐射在近地表面形成盲区。所以,“太阳盲”紫外光探测器可以在比较干净的背景中探测物体发射的中紫外辐射,降低了信号处理难度,提高探测效率和灵敏度。这种“太阳盲”紫外光探测器在航空航天、医疗保健、军事科学等领域得到了应用。与本发明有关的现有“太阳盲”紫外光探测器使用的探测材料通常是GaxAl1-xN。
发明内容
GaxAl1-xN材料存在的不足有,首先,采用GaxAl1-xN材料制作薄膜通常是在蓝宝石等昂贵的衬底材料上生长;其次,需要使用化学气相沉积、分子束外延、激光脉冲沉积等大型、复杂设备生长,同时生长温度也较高,从而造成了能源的浪费;第三,由于GaN的禁带宽度为3.4eV,而AlN的禁带宽度为6.2eV,决定了GaxAl1-xN薄膜的禁带宽度调节范围较小,即3.4~6.2eV;第四,由于GaN晶格常数Ga离子半径为AlN晶格常数Al离子半径为使得GaN和AlN晶格失配和离子半径失配较大,分别为1.8%和15%,造成较大的晶格畸变。为了克服现有技术的上述不足,我们发明了一种NixMg1-xO短波长紫外光探测材料。
本发明是这样实现的,短波长紫外光探测材料的分子式为NixMg1-xO,0≤X≤1。
本发明其技术效果在于,采用NixMg1-xO材料制作薄膜可以在石英玻璃这样一种普通衬底即可进行,所使用的设备也属于普通设备,如磁控溅射设备、电子束蒸发设备等,这些设备运行成本低廉。此外,由于NiO的禁带宽度为3.6eV,而MgO的禁带宽度约为7.8eV,当在NiO中掺入Mg形成NixMg1-xO后,禁带宽度可以在3.6~7.8eV之间大幅度的调整,可以实现不同波长的探测。再有,由于NiO晶格常数Ni离子半径为MgO晶格常数为Mg离子半径为NiO和MgO同属于立方结构,两者晶格失配和离子半径失配很小,分别为0.7%和5.7%,将Mg掺入NiO后不会引起较大的晶格畸变,能形成无限固溶体。
具体实施方式
实施例一:
制作NixMg1-xO短波长紫外光探测薄膜,确定X=0.8,采用磁控溅射方法在高真空磁控溅射设备中进行,以石英玻璃为衬底。所制备的Ni0.8Mg0.2O薄膜晶格失配和离子半径失配很小,分别为0.7%和5.7%,禁带宽度为4.43eV,能够实现280nm波长的探测。
实施例二:
制作NixMg1-xO短波长紫外光探测薄膜,确定X=0.68,采用磁控溅射方法在高真空磁控溅射设备中进行,以石英玻璃为衬底。所制备的Ni0.68Mg0.32O薄膜晶格失配和离子半径失配很小,分别为0.7%和5.7%,禁带宽度为4.96eV,能够实现250nm波长的探测。
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