[发明专利]制备单一立方相结构的MgxZn1-xO半导体合金体材料的方法无效

专利信息
申请号: 200810050790.9 申请日: 2008-06-04
公开(公告)号: CN101285147A 公开(公告)日: 2008-10-15
发明(设计)人: 秦杰明;张吉英;姚斌;申德振;赵东旭;张振中;李炳辉 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: C22C29/12 分类号: C22C29/12;C22C1/04;B22F3/14
代理公司: 长春菁华专利商标代理事务所 代理人: 赵炳仁
地址: 130033吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 制备 单一 立方 结构 mg sub zn 半导体 合金 材料 方法
【权利要求书】:

1.一种制备单一立方相结构的MgxZn1-xO半导体合金体材料的方法,以粉体MgO和粉体ZnO作原料,其特征在于包括以下步骤:

a.将粉体MgO和ZnO按摩尔比为MgO=0.32~0.61、ZnO=0.68~0.39的配比量均匀混合;

b.将上述MgO和ZnO粉体混合料在压力为4~6GPa、温度为1600~2000℃的条件下热压烧结即制得所述的MgxZn1-xO半导体合金体材料。

2.根据权利要求1所述的制备单一立方相结构的MgxZn1-xO半导体合金体材料的方法,其特征在于,所述的粉体MgO和ZnO的纯度为4~5N、粒径小于1um;将所述的MgO和ZnO粉体混合料预压成型后装入叶腊石模块腔体内,在六面顶压机压力室中加压、加热至设定的压力和温度后保温保压20分钟。

3.根据权利要求2所述的方法制备的MgxZn1-xO半导体合金体材料,其特征在于该材料具有单一的立方相结构,其结构式中的X值为0.32<X<0.61,该材料的禁带宽度在3.5~5.5eV范围内。

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