[发明专利]基于激光发生器阵列的可编程式光源及使用方法和用途无效
| 申请号: | 200810043805.9 | 申请日: | 2008-09-25 |
| 公开(公告)号: | CN101685258A | 公开(公告)日: | 2010-03-31 |
| 发明(设计)人: | 王雷 | 申请(专利权)人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H05B37/02 |
| 代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁纪铁 |
| 地址: | 201206上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 激光 发生器 阵列 程式 光源 使用方法 用途 | ||
技术领域
本发明涉及一种半导体制造用光刻装置及其使用方法以及该装置的用途,具体涉及一种半导体制造中光刻用光源及其使用方法以及该装置的用途。
背景技术
在半导体制造中,光刻工艺是主要的图形转移技术。而影响光刻的主要因素之一就是曝光的照明方式,它直接制约了光刻工艺的分辨率,关键尺寸控制,工艺窗口大小等关键性工艺指标。图1-图4列出了现有的比较常见的一些照明方式。而在实际的光刻设备中,主要有两种实现方法。应用最广也最易于实现的是使用物理光源,需要什么样的照明就配合什么样的物理光源。这种方法实现非常简单,但缺点是可调节性差,成本高。另一种则是为了实现连续可调,通常使用某些光学系统将固定的物理光源成像以后通过光路进行调节。这种方法比较复杂,但可以实现连续可变的照明方式,但是其缺点也很明显,对于复杂图形的光源调节能力很差,而且对于过于复杂的照明方式,必须同样依赖一些物理光源来形成需要的图形(比如图4所表示的特殊照明方式)。
而对于关键尺寸越来越小的先进光刻工艺,根据图形反算的特殊照明方式越来越多,越来越复杂,必须使用各种各样的物理光源来进行曝光,而越复杂的光源其成本也会上升。而在实际的工艺研发过程中,由于计算模拟的准确性限制,往往需要产生很多这样的特殊照明进行实际曝光验证来进行工艺的优化,所以对应的光源会是一个很大的费用。同样在实际生产中,使用特殊照明也会引入额外的生产成本。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是发明一种可编程式连续可变且可以重复利用的光源,实现复杂的照明方式,满足光刻工艺不断发展的需求。
为了解决以上技术问题,本发明提供了一种基于激光发生器阵列的可编程式光源,包括光源体,其特征在于,所述光源体上有激光发生器阵列,激光发生器阵列由两个以上激光发生器单元排列组成,每个单独的激光发生器单元独立产生光;由可编程的控制电路连接每一个激光发生器单元,控制电路控制每一个激光发生器单元的开启或关闭。
本发明的有益效果在于:本发明通过控制激光发生器阵列的图案,使得在光刻时可以通过编写不同图案程序以产生任意所需要的图案。一套光源系统可以在不同的场合反复使用,可以取代现有的基于物理或光学调节的光刻机光源系统,实现先进光刻工艺所需要的各种需求不同的照明方式,提高了光刻工艺的能力,同时降低光刻机照明系统的成本。
上述基于激光发生器阵列的可编程式光源的使用方法,包括以下步骤:
把设计图形转化为点阵图形数据;
将前述点阵图形数据导入控制激光发生器阵列的控制电路;
控制电路控制激光发生器阵列中单个激光发生器单元的开启或关闭,使得激光发生器阵列形成点阵图案;
激光发生器阵列形成点阵图案之后,通过成像系统或直接照射进行曝光或检测。
本发明所述的基于激光发生器阵列的可编程式光源,不但可以作为光刻工序中设计图形转移所需要的光源,也可以作为设备检测所需要的测试光源。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细说明。
图1是现有光刻用轮带光源示意图;
图2是现有光刻用双极式光源示意图;
图3是现有光刻用四极式光源示意图;
图4是现有光刻用的一种特殊光源示意图;
图5是本发明实施例的光源示意图;
图6为本发明实施例所述使用方法的逻辑框图。
具体实施方式
如图5所示,本实施例包括光源体1,所述光源体1上有激光发生器阵列2,激光发生器阵列2由两个以上激光发生器单元3排列组成,每个单独的激光发生器单元3独立产生光;由可编程的控制电路连接每一个激光发生器单元3,控制电路控制每一个激光发生器单元3的开启或关闭。至少两个单独可控的激光发生器单元3组成阵列2,可以通过公知的电学方法或其他方法控制激光发生器单元开关,使本实施例所述的可编程式的激光发生器阵列2形成各种不同图形。本发明所述的控制激光发生器单元的方法可以是在单个激光发生器单元3上设置由控制电路控制的工作开关,当需要该激光发生器单元3开启时控制电路控制工作开关打开,产生激光;当需要该激光发生器单元3关闭时工作开关关闭,不产生光线。
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