[发明专利]用于解决在高台阶基底条件下光刻胶涂布异常的方法

权利要求书

1.一种用于解决在高台阶基底条件下光刻胶涂布异常的方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一、在高台阶衬底上首先涂布一层可显影抗反射材料，用于降低表面的台阶上需要涂光刻胶位置起伏的高度；

步骤二、在可显影抗反射材料之上涂布光刻胶。

2.如权利要求1所述的用于解决在高台阶基底条件下光刻胶涂布异常的方法，其特征在于，前述可显影抗反射材料的厚度小于光刻胶厚度。

3.如权利要求1所述的用于解决在高台阶基底条件下光刻胶涂布异常的方法，其特征在于，所使用的抗反射层材料为后续曝光过程中可以被显影液溶解的可显影的抗反射层材料。

4.如权利要求1所述的用于解决在高台阶基底条件下光刻胶涂布异常的方法，其特征在于，所述可显影抗反射材料为在后续曝光过程中可以曝光产生光酸进行催化的可显影抗反射材料，其应用波长和光刻胶应用波长不相等。