[发明专利]一种化学机械抛光液无效
| 申请号： | 200810042568.4 | 申请日： | 2008-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN101665662A | 公开（公告）日： | 2010-03-10 |
| 发明（设计）人： | 陈国栋;宋伟红;姚颖 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201201上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
1、一种化学机械抛光液，其含有二氧化硅溶胶颗粒、有机羧酸和/或有机膦酸类化合物、硝酸钾和水。
2、如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的有机羧酸为碳原子数2～6的二元和三元羧酸中的一种或多种。
3、如权利要求2所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的有机羧酸为草酸、酒石酸、亚氨基二乙酸、氨三乙酸和柠檬酸中的一种或多种。
4、如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的有机膦酸类化合物为含有1～4个膦酸基团，且碳原子数为2～20的膦酸类化合物。
5、如权利要求4所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的有机膦酸类化合物为羟基亚乙基二膦酸、氨基三亚甲基膦酸、2-羟基膦酰基乙酸、2-膦酸丁烷-1，2，4-三羧酸和多氨基多醚基亚甲基膦酸中的一种或多种。
6、如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的有机羧酸和/或有机膦酸类化合物的含量为质量百分比0.2～3％。
7、如权利要求6所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的有机羧酸和/或有机膦酸类化合物的含量为质量百分比0.2％～1％。
8、如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的硝酸钾的含量为质量百分比0.2～3％。
9、如权利要求8所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的硝酸钾的含量为质量百分比0.2％～1％。
10、如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的二氧化硅溶胶颗粒的粒径为50～100nm。
11、如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的二氧化硅溶胶颗粒的含量为质量百分比15～38％。
12、如权利要求11所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的二氧化硅溶胶颗粒的含量为质量百分比15～25％。
13、如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的化学机械抛光液中还含有非离子型和/或两性型表面活性剂。
14、如权利要求13所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的表面活性剂为月桂酰基丙基氧化胺、十二烷基二甲基氧化胺、椰油酰胺基丙基甜菜碱、吐温20、十二烷基二甲基甜菜碱、椰油酰胺丙基甜菜碱和椰油脂肪酸二乙醇酰胺中的一种或多种。
15、如权利要求13所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的表面活性剂的含量为0.2％以下，不包括0％；百分比为质量百分比。
16、如权利要求1～15所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的化学机械抛光液的pH值为9～12。
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