[发明专利]双腔交替式非晶硅光伏薄膜化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种双腔交替式非晶硅光伏薄膜化学气相沉积设备，包括真空镀膜机，所述真空镀膜机包括真空腔体及与其连接的加热和冷却系统(7)、真空获得和压力测量系统(5)、工艺气体和流量控制系统(4)、射频电源和匹配器系统(6)和中心控制系统(8)，其特征在于：该真空镀膜机设有两个真空腔体(1)，每个真空腔体设有一至多个电极盒(2)；所述两个真空腔体共用真空获得和压力测量系统(5)，工艺气体和流量控制系统(4)，射频电源和匹配器系统(6)，通过中心控制系统(8)在时间上控制真空腔体的交替镀膜过程。

2.如权利要求1所述的双腔交替式非晶硅光伏薄膜化学气相沉积设备，其特征在于：所述真空腔体内设置轨道，电极盒安装在轨道上，便于安装和维护时拉出和推入。

3.如权利要求1所述的双腔交替式非晶硅光伏薄膜化学气相沉积设备，其特征在于：各个系统与电极盒的连接均为固定式，在生产的全部过程中无须移动、拆卸或装接。

4.如权利要求1所述的双腔交替式非晶硅光伏薄膜化学气相沉积设备，其特征在于：该设备在生产过程中，两真空腔体交替进行非晶硅镀膜和玻璃片装卸载，并在玻璃片装卸载时将其温度降至安全操作范围。