[发明专利]散热装置及散热方法有效
申请号: | 200810041372.3 | 申请日: | 2008-08-04 |
公开(公告)号: | CN101646327A | 公开(公告)日: | 2010-02-10 |
发明(设计)人: | 王昊 | 申请(专利权)人: | 王昊 |
主分类号: | H05K7/20 | 分类号: | H05K7/20;H01L23/427;F28D15/02 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李 丽 |
地址: | 100871北京市海淀区成府路*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 散热 装置 方法 | ||
技术领域
本申请涉及散热装置及散热方法。
背景技术
随着超大规模集成电路制造技术的进步,芯片的体积越来越小,而发热 功率却越来越大,导致芯片散热的热通量急剧增大。
根据热力学原理,液体的导热效率大于空气的导热效率。基于这种理论, 水冷等管道散热技术逐步应用于CPU和GPU等大功率器件,但所有这些散热 技术都存在着种种局限性。
发明内容
散热装置的实施方式,包括具有第一部分和第二部分的腔室,紧靠所述 第一部分内表面设置的第一刮刷,其中,所述第一刮刷扫动所述第一部分的 内表面。
散热方法的实施方式包括步骤:在腔室的第一部分内表面形成均匀的冷 却剂液膜;加热冷却剂液膜;由冷却剂液膜形成冷却剂蒸汽;在腔室第二部 分的内表面冷凝冷却剂蒸汽。
上述实施方式中,将液态冷却剂均匀涂布于蒸发部的内表面形成液膜, 使得散热装置的散热能力提高。另外,液态冷却剂在蒸发部的内表面均匀涂 布,使得散热装置的散热均匀性提高。
发明内容部分的描述仅仅是举例说明,不应该用于解释或限制权利要求 的范围。
根据本发明的一个方面,提供了一种散热装置,包括具有第一部分和第 二部分的腔室,紧靠所述第一部分内表面设置的第一刮刷,紧靠所述第二部 分内表面设置的第二刮刷,以及连接所述第一刮刷和第二刮刷的通路,其中, 所述第一刮刷扫动所述第一部分的内表面,并且所述第二刮刷扫动第二部分 的内表面。
根据本发明的另一个方面,提供了一种散热方法,包括:在腔室的第一 部分内表面形成均匀的冷却剂液膜;加热冷却剂液膜;由冷却剂液膜形成冷 却剂蒸汽;在腔室第二部分的内表面冷凝冷却剂蒸汽;扫动第二刮刷,收集 所述第二部分内表面冷凝的冷却剂;以及引导液体冷却剂从第二刮刷至第一 刮刷。
附图说明
图1为散热装置一个实施例的正视剖视示意图;
图2a和图2b分别为两种刮刷实施例的形状示意图;
图3为一个实施例中散热装置的原理示意图;
图4为散热装置另一个实施例俯视剖视示意图;
图5为散热装置又一个实施例俯视剖视示意图;
图6为散热装置一个实施例的正视剖视示意图;
图7为散热方法一个实施例流程图。
具体实施方式
下面以发热体是半导体芯片为例,结合附图对散热装置实施例的结构以 及散热方法实施例的步骤进行详细说明。
图1为一个实施例中散热装置正视剖视图。如图1所示,散热装置100 包括腔室101。腔室101为中空的封闭或基本封闭体,至少能隔绝气体在腔室 101和环境之间的传质。腔室101的外观形状常见为圆柱形,也可以为正方体、 长方体等多面立方体型。相应地,腔室101的中空部分也可以为圆柱形或正 方体、长方体等多面立方体。腔室101一般由导热较好的材料,如金属材料 制造。
腔室101内盛装有冷却剂。冷却剂的装填量可以根据散热装置100的工 作温度和散热功率以及冷却剂本身的物性来决定。作为冷却剂的物质可以是 水、氨以及甲醇等。
腔室101适于与发热单元120,例如电路或半导体芯片,接触的一个或多 个侧壁为蒸发部102。腔室101适于与辅助散热装置(图未示)接触的一个或 多个侧壁为冷凝部103。发热单元120发出的热量通过蒸发部102传递给腔室 101内的冷却剂,冷却剂在蒸发部102的内表面蒸发,吸收从蒸发部102传递 来的热量。吸热后的冷却剂形成冷却剂蒸汽。冷却剂蒸汽通过扩散到达冷凝 部103的内表面,在冷凝部103的内表面放热冷凝,形成液态的冷却剂。从 而完成将热量从蒸发部到冷凝部的转移。在其他实施例中,还可以在冷凝部 103的外表面安装风冷、水冷或翅片等辅助散热装置(图未示),以加快热量 从冷凝部向外界传递。
腔室101的内部还包括对应于蒸发部102设置的蒸发部刮刷104。蒸发部 刮刷104能够扫过蒸发部102的内表面。在这种扫动的作用下,蒸发部刮刷 104上的液态冷却剂被均匀地涂布到蒸发部102的内表面,使蒸发部刮刷104 扫过的蒸发部102内表面形成冷却剂液膜111。因此,从发热单元120传递至 蒸发部102的热量被均匀地吸走,使得散热装置100的散热均匀性提高。
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