[发明专利]快速制备SiC纳米线的方法无效

专利信息
申请号: 200810041205.9 申请日: 2008-07-31
公开(公告)号: CN101327929A 公开(公告)日: 2008-12-24
发明(设计)人: 张亚非;王峰磊;张丽英 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: C01B31/36 分类号: C01B31/36
代理公司: 上海交达专利事务所 代理人: 王锡麟;王桂忠
地址: 200240*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 快速 制备 sic 纳米 方法
【权利要求书】:

1.一种快速制备SiC纳米线的方法,其特征在于,包括如下步骤:

a、按照质量百分比将SiO粉为33.3%-66.7%、焦炭为33.3%-66.7%进行混合;

b、将混合物放入球磨机,球磨,制备反应原料;

所述球磨,其时间为6-24小时,速度为400转/分钟;

c、将反应原料放入石墨管制作的坩埚中,置于密闭石英管内,使用真空泵抽真空;

所述抽真空,是指抽真空至50Pa-100Pa;

d、在石英管内通入氩气或者氮气,调节进气流量,控制管内气压在0.02-0.04MPa;

e、采用石英管外缠绕的高频感应电源线圈对石墨坩埚进行加热,在3min内升至1600℃,保温;

所述保温,其时间为20min-60min;

f、氩气或者氮气保护下随炉冷却至室温,即得到SiC纳米线。

2.根据权利要求1所述的快速制备SiC纳米线的方法,其特征是,步骤a中,按质量百分比为SiO粉为33.3%,焦炭为66.7%进行混合。

3.根据权利要求1所述的快速制备SiC纳米线的方法,其特征是,步骤a中,按质量百分比为SiO粉为50%,焦炭为50%进行混合。

4.根据权利要求1所述的快速制备SiC纳米线的方法,其特征是,步骤a中,按质量百分比为SiO粉为66.7%,焦炭为33.3%进行混合。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的快速制备SiC纳米线的方法,其特征是,所述SiO粉、焦炭,其纯度均为99.9%以上。

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