[发明专利]用电沉积制备铂纳米多孔电极的方法无效

专利信息
申请号: 200810039486.4 申请日: 2008-06-25
公开(公告)号: CN101303325A 公开(公告)日: 2008-11-12
发明(设计)人: 王依婷;朱自强;张健;朱建中 申请(专利权)人: 华东师范大学
主分类号: G01N27/327 分类号: G01N27/327;G01N33/48
代理公司: 上海德昭知识产权代理有限公司 代理人: 程宗德;石昭
地址: 20024*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 用电 沉积 制备 纳米 多孔 电极 方法
【权利要求书】:

1.一种用电沉积制备铂纳米多孔电极的方法,该方法需在制备铂纳米多孔电极的设备中施行,所述设备含电化学工作站和电解池,所述电解池内安装有工作电极、参比电极和对电极,其特征在于,具体操作步骤: 

第一步 表面处理工作电极的衬底 

先后用0.3微米和0.05微米的氧化铝粉将工作电极的衬底的表面抛光成镜面,二次去离子水超声清洗二次,每次5分钟,工作电极的衬底是玻碳或铂圆盘; 

第二步 配制PtCu电沉积溶液 

吸取2.7ml浓硫酸于100ml容量瓶中,称取499.4mg五水硫酸铜(CuSO4·5H2O)和830.2mg氯亚铂酸钾(K2PtCl4)溶于少量水后倒入上述容量瓶中,加水至刻度,摇匀,制得PtCu电沉积溶液,即0.02M硫酸铜和0.02M氯亚铂酸钾的0.5M硫酸溶液备用,使用前通入高纯氮,赶走溶液中的氧气; 

第三步 在工作电极的衬底上沉积PtCu合金膜 

将工作电极的衬底、参比电极、对电极插入PtCu电沉积溶液,电化学工作站为工作电极的衬底和对电极提供恒定电压,恒定电压介于60-80毫伏之间,参比电极提供基准电位,PtCu合金膜沉积在工作电极的衬底上,电沉积时间由PtCu合金膜沉积厚度和沉积电流大小而定; 

第四步 配制Cu电刻蚀溶液 

吸取2.7ml浓硫酸于100ml容量瓶中,用水稀释至刻度,制得0.5M硫酸溶液备用; 

第五步 刻蚀掉PtCu合金膜中的Cu 

将工作电极的衬底、参比电极、对电极清洗干净后插入Cu电刻蚀溶液,电化学工作站为工作电极的衬底和对电极提供恒定电压,恒定电压为350毫伏,参比电极提供基准电位,刻蚀PtCu合金膜中的Cu,至刻蚀电流降为零,在工作电极的衬底上形成铂纳米多孔电极的粗品; 

第六步 配制电极清洗溶液 

吸取5.4ml浓硫酸于100ml容量瓶中,用水稀释至刻度,制得1.0M硫酸溶液备用; 

第七步 去除铂纳米多孔电极的粗品的表面残留的杂质 

将铂纳米多孔电极的粗品、参比电极、对电极清洗干净后插入电极清洗溶液,电化学工作站为铂纳米多孔电极的粗品和对电极提供+1.0至-0.45伏的扫描电压,参比电极提供基准电位,扫描至获得可重复的伏安循环曲线为止,至此,制得铂纳米多孔电极,铂纳米多孔电极就是衬底上沉积有铂纳米多孔膜的工作电极。 

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