[发明专利]巯基官能化二氧化硅中空微球作为汞离子吸附剂的用途无效
| 申请号： | 200810039202.1 | 申请日： | 2008-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN101298036A | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | 袁俊杰;浦鸿汀;常志宏 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | B01J20/10 | 分类号： | B01J20/10;C02F1/28;C02F1/62;C02F101/20 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 | 代理人： | 陆飞;盛志范 |
| 地址： | 20009*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 巯基 官能 二氧化硅 中空 作为 离子 吸附剂 用途 | ||
【权利要求书】：
1、一种巯基官能化中空二氧化硅微球作为汞离子吸附剂的用途。
2、如权利要求1所述的巯基官能化中空二氧化硅微球作为汞离子吸附剂的用途，其特征在于采用静态吸附法；具体步骤如下：
取含固量为20-100mg的巯基官能化二氧化硅微球悬浮液超声分散均匀，加入到100ml锥形瓶中，调节溶液的pH值为2-7，用移液管移取浓度为10mg/L-20g/L的含汞离子溶液20-40ml，加入到锥形瓶中，超声分散并振荡1-24h后抽滤；然后将抽滤清液进行汞离子浓度测定。
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