[发明专利]平面反射式复眼冷光源曝光系统及其光刻机无效
| 申请号： | 200810037366.0 | 申请日： | 2008-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN101349814A | 公开（公告）日： | 2009-01-21 |
| 发明（设计）人： | 张岳方 | 申请（专利权）人： | 上海学泽光学机械有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海天协和诚知识产权代理事务所 | 代理人： | 张恒康 |
| 地址： | 201108上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 平面 反射 复眼 光源 曝光 系统 及其 光刻 | ||
【权利要求书】：
1.一种平面反射式复眼冷光源曝光系统，包括：灯源组、多面镜组装置、反光镜组、曝光装置、罩壳，灯源组的光源中心置于多面镜组装置的中心点，反光镜组、曝光装置置于罩壳内，其特征在于，
所述的灯源组，包括超高压汞灯、超高压汞灯架，超高压汞灯固定于超高压汞灯架；
所述的多面镜组装置，包括上层镜座、下层镜座，上层镜座紧密叠合于下层镜座上；所述的上层镜座包括：上盘、上镜片压圈、上盘反光片，上镜片压圈置于上盘、上盘反光片之间，上盘反光片依次紧密环行成圈放列于上盘内；所述的下层镜座包括：下盘、下镜片压圈、下盘反光片，下镜片压圈置于下盘、下盘反光片之间，下盘反光片依次紧密环行成圈放列于下盘内；
所述上盘反光片以及下盘反光片为平面反光片，共有64个，所述64个平面反光片每片与超高压汞灯光源中心之间的夹角U为5.16°；
所述的反光镜组包括：小反光镜组、大反光镜组，小反光镜组、大反光镜组平行对峙放置，并与水平夹角为45°；
所述的曝光装置包括：快门组、曝光准镜组、准直座轴、工作曝光面，快门组置于小反光镜组、大反光镜组之间，快门组、曝光准镜组、工作曝光面适应于光路依次放置。
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