[发明专利]具有压敏特性的高分子纳米复合材料合成工艺和用途无效

专利信息
申请号: 200810036709.1 申请日: 2008-04-28
公开(公告)号: CN101311217A 公开(公告)日: 2008-11-26
发明(设计)人: 张建 申请(专利权)人: 上海思麦电子有限公司
主分类号: C08L63/00 分类号: C08L63/00;C08L83/00;C08L33/00;C08K3/08;C08K3/22;C08K3/14
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 代理人: 俞宗耀
地址: 201201上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 具有 特性 高分子 纳米 复合材料 合成 工艺 用途
【权利要求书】:

1.具有压敏特性的高分子纳米复合材料的合成工艺,其特征是:采用金属纳米材料和半导体陶瓷纳米材料与高分子基体材料均匀共混,制成匀质的高分子纳米复合材料,各组分的重量百分数%为:

金属纳米材料            20%~40%

半导体陶瓷纳米材料      10%~30%

高分子基体材料          40%~70%

2.根据权利要求1所述具有压敏特性的高分子纳米复合材料的合成工艺,其特征是:所述金属纳米材料可以是镍,铜,铁,铝,金,银等材料中的任意一种或二种的混合物。

3.根据权利要求1所述具有压敏特性的高分子纳米复合材料的合成工艺,其特征是:所述所述的半导体陶瓷纳米材料可以是氧化锌,碳化硅,二氧化钛中的任意一种或二种的混合物。

4.根据权利要求1所述具有压敏特性的高分子纳米复合材料的合成工艺,其特征是:所述高分子基体材料可以是环氧树脂,有机硅树脂,丙烯酸树脂中的任意一种。

5.根据权利要求1所述具有压敏特性的高分子纳米复合材料的合成工艺,其特征是:所述金属纳米材料和所述半导体陶瓷纳米材料的粒径为10nm至500nm。

6.权利要求1所述合成工艺合成的具有压敏特性的高分子纳米复合材料,用于制作对电压敏感的压敏元件。

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