[发明专利]掩模及其设计方法、和使用该掩模制造阵列基板的方法

权利要求书

1.一种掩模板，用于制造液晶显示装置的阵列基板，包括：

多个第一掩模图形区域，用于通过光刻在玻璃基板上形成多个第一面板图形；

多个第二掩模图形区域，用于通过光刻在玻璃基板上形成多个第二面板图形；

其中所述第一掩模图形区域和所述第二掩模图形区域分别用于阵列基板的不同工艺。

2.根据权利要求1所述的掩模板，其中所述阵列基板的不同工艺包括：形成栅极线、薄膜晶体管的栅极和存储电容的下极板的工艺，形成沟道保护层图形的工艺，形成有源层硅岛的工艺，形成像素电极的工艺，形成过孔图形的工艺，形成数据线的工艺，以及形成氮化硅保护层的工艺。

3.根据权利要求1所述的掩模板，其中所述第一面板图形和所述第二面板图形通过不同的玻璃基板形成液晶显示装置。

4.根据权利要求1所述的掩模板，其中所述第一面板图形和所述第二面板图形分别用于制造不同的液晶显示模式的液晶显示面板的阵列基板。

5.根据权利要求1所述的掩模板，其中设置所述第二掩模图形区域的部分位于设置所述第一掩模图形区域的部分的上方或下方。

6.根据权利要求1所述的掩模板，其中设置所述第二掩模图形区域的部分位于设置所述第一掩模图形区域的部分的左侧或右侧。

7.根据权利要求1所述的掩模板，其中所述掩模板还包括多个第三掩模图形区域，用于通过光刻在玻璃基板上形成多个第三面板图形，并且所述第三掩模图形区域用于不同于第一掩模图形区域和第二掩模图形区域的工序。

8.根据权利要求1所述的掩模板，其中所述第一掩模图形区域和所述第二掩模图形区域的尺寸相同。

9.一种设计用于制造液晶显示装置的掩模板的方法，包括以下步骤：

在所述掩模板上形成多个第一掩模图形区域的步骤，所述多个第一掩模图形区域用于在玻璃基板上形成多个第一面板图形；以及

在靠近掩模板边框的多个第一掩模图形区域与所述掩模板的边框之间形成多个第二掩模图形区域，所述第二掩模图形区域用于在玻璃基板上形成多个第二面板图形，

其中所述第一掩模图形区域和所述第二掩模图形区域分别用于阵列基板的不同工艺。

10.根据权利要求9所述的设计用于制造液晶显示装置的掩模板的方法，其中所述阵列基板的不同工艺包括：形成栅极线、薄膜晶体管的栅极和存储电容的下极板的工艺，形成沟道保护层图形的工艺，形成有源层硅岛的工艺，形成像素电极的工艺，形成过孔图形的工艺，形成数据线的工艺，以及形成氮化硅保护层的工艺。

11.根据权利要求9所述的设计用于制造液晶显示装置的掩模板的方法，其中所述第一面板图形和所述第二面板图形通过不同的玻璃基板形成液晶显示装置。

12.根据权利要求9所述的设计用于制造液晶显示装置的掩模板的方法，其中所述第一面板图形和所述第二面板图形分别用于制造不同的液晶显示模式的液晶显示面板的阵列基板。

13.根据权利要求9所述的设计用于制造液晶显示装置的掩模板的方法，其中设置所述第二掩模图形区域的部分位于设置所述第一掩模图形区域的部分的上方或下方。

14.根据权利要求9所述的设计用于制造液晶显示装置的掩模板的方法，其中设置所述第二掩模图形区域的部分位于设置所述第一掩模图形区域的部分的左侧或右侧。

15.根据权利要求9所述的设计用于制造液晶显示装置的掩模板的方法，其中在靠近掩模板边框的多个第一掩模图形区域与所述掩模板的边框之间还包括多个第三掩模图形区域，用于通过光刻在玻璃基板上形成多个第三面板图形，并且所述第三掩模图形区域用于不同于第一掩模图形区域和第二掩模图形区域的工序。

16.根据权利要求9所述的设计用于制造液晶显示装置的掩模板的方法，其中所述第一掩模图形区域和所述第二掩模图形区域的尺寸相同。

17.一种使用掩模板制造液晶显示装置的阵列基板的方法，所述掩模板包括多个第一掩模图形区域和多个第二掩模图形区域，所述第一掩模图形区域和所述第二掩模图形区域用于阵列基板的不同工艺，该方法包括通过挡板定义曝光区域，在玻璃基板上仅形成多个第一面板图形以制造第一液晶显示装置。