[发明专利]一种化学机械抛光液无效
| 申请号： | 200810033260.3 | 申请日： | 2008-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN101497765A | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | 王晨;荆建芬;杨春晓 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
1.一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒和水，其特征在于：其还同时含有双胍类化合物和氮唑类化合物。
2.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的双胍类化合物选自双胍、二甲双胍、苯乙双胍、吗啉胍、1，1’-己基双[5-(对氯苯基)双胍]及上述化合物的酸加成盐中的一种或多种。
3.如权利要求2所述的抛光液，其特征在于：所述的酸为盐酸、磷酸、硝酸、醋酸、葡萄糖酸或磺酸。
4.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的双胍类化合物的含量为质量百分比0.01～7％。
5.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的氮唑类化合物为三氮唑和四氮唑及其衍生物中的一种或多种。
6.如权利要求5所述的抛光液，其特征在于：所述的氮唑类化合物为1，2，4-三氮唑、3-氨基-1，2，4-三氮唑、5-羧基-3-氨基1，2，4-三氮唑和5-氨基四氮唑中的一种或多种。
7.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的氮唑类化合物的含量为质量百分比0.01～15％。
8.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的研磨颗粒选自SiO2、Al2O3、ZrO2、CeO2、SiC、Fe2O3、TiO2和Si3N4中的一种或多种。
9.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的研磨颗粒的含量为质量百分比0.1～30％。
10.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的研磨颗粒的粒径为30～120nm。
11.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的抛光液的pH范围为8～12。
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