[发明专利]一种化学机械抛光液

权利要求书

1.一种化学机械抛光液在提高多晶硅抛光速率中的应用，其中，所 述抛光液包括研磨颗粒、水和唑类化合物，所述的唑类化合物为 三氮唑及其衍生物和盐、以及四氮唑及其衍生物和盐中的一种或 多种，且所述的唑类化合物的含量为质量百分比0.0001～20%。

2.如权利要求1所述的应用，其特征在于：

所述的三氮唑及其衍生物为1,2,3-三氮唑、5-巯基-1,2,3-三氮唑、 苯并三氮唑、5-氯代苯并三氮唑、5-羧基苯并三氮唑、5-甲基苯并 三氮唑、1,2,4-三氮唑、1,2,4-三氮唑-3-甲酰胺、1,2,4-三氮唑-3- 羧酸、3-巯基-1,2,4-三氮唑、3-氨基-1,2,4-三氮唑、3-氨基-1,2,4- 三氮唑-5-羧酸、3-氨基-5-巯基-1,2,4-三氮唑、3-硝基-1,2,4-三氮唑、 4-氨基-1,2,4-三氮唑、3-巯基-4-甲基-1,2,4-三氮唑、3,5-二氨基 -1,2,4-三氮唑、1,2,4-三氮唑-3-羧酸甲酯和5-氨基-1,2,4-三氮唑-3- 羧酸甲酯中的一种或多种；

所述的四氮唑及其衍生物为1H-四氮唑、1H-四氮唑-5-甲酸乙酯、 5-苯基-四氮唑、5-甲基-四氮唑、1-甲基-5-巯基-1H-四氮唑、5-氯 甲基-1H-四氮唑、5-苄基四氮唑、5-苄硫基四氮唑、5-氨基四氮唑、 2-甲基-5-氨基-2H-四氮唑、5-甲硫基四氮唑、5-乙硫基四氮唑、1- 羟乙基-5-巯基-四氮唑、1-苯基-5-巯基-四氮唑、四氮唑乙酸、1- 乙基-5-巯基-四氮唑和4-羟基苯基-5-巯基-四氮唑中的一种或多 种。

3.如权利要求1所述的应用，其特征在于：所述的盐为钠盐或钾盐。

4.如权利要求1所述的应用，其特征在于：所述的唑类化合物的含 量为质量百分比0.001～10%。

5.如权利要求1所述的应用，其特征在于：所述的研磨颗粒选自二 氧化硅、氧化铝、掺杂铝的二氧化硅、覆盖铝的二氧化硅、二氧 化铈、二氧化钛和高分子研磨颗粒中的一种或多种。

6.如权利要求1所述的应用，其特征在于：所述的研磨颗粒的含量 为质量百分比0.1～30%。

7.如权利要求1所述的应用，其特征在于：所述的研磨颗粒的粒径 为30～120nm。

8.如权利要求1所述的应用，其特征在于：所述的抛光液的pH为 8～12。