[发明专利]离子束抛光工艺修形能力的评价方法无效

专利信息
申请号: 200810030955.6 申请日: 2008-03-31
公开(公告)号: CN101250029A 公开(公告)日: 2008-08-27
发明(设计)人: 李圣怡;戴一帆;解旭辉;周林;郑子文;陈善勇;彭小强 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科学技术大学
主分类号: C03C23/00 分类号: C03C23/00
代理公司: 湖南兆弘专利事务所 代理人: 赵洪
地址: 410073湖南省长沙市砚瓦池正街47号中国*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 离子束 抛光 工艺 能力 评价 方法
【权利要求书】:

1. 一种离子束抛光工艺修形能力的评价方法,包括以下步骤:

(1)用待评价修形能力的离子束抛光工艺过程进行去除函数试验获取去除函数,经试验获取的去除函数记为p;

(2)对去除函数p进行傅立叶变换,得到去除函数的谱函数P;

(3)计算修形能力评价函数Γ,计算公式为Γ=1B|P|,]]>其中B为去除函数p的积分,|P|表示P的模;

(4)根据修形能力评价函数Γ计算出所述离子束抛光工艺对不同空间频率的修形能力评价值,再根据计算所得的修形能力评价值的大小或修形能力评价值的变换值大小来评价所述离子束抛光工艺过程修形能力的强弱,修形能力评价值越大,则抛光工艺过程的修形能力越强,反之则修形能力越弱。

2. 根据权利要求1所述的评价方法,其特征在于所述步骤(1)中获取的去除函数p为连续的一维去除函数p(x);步骤(2)中的傅立叶变换采用一维傅立叶变换,变换公式为P=P(f)=-p(x)exp(-j2πf)dx,]]>其中f为空间频率;步骤(3)中修形能力评价函数的表达式为Γ=Γ(f)=1B|P(f)|,]]>其中B=-p(x)dx.]]>

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