[发明专利]一种用于多晶硅铸锭工艺的真空压力连续控制方法及其控制系统

权利要求书

1.一种用于多晶硅铸锭工艺真空压力连续控制方法，其特征在于，在加热升温阶段，当炉温≤1175℃时，对加热炉内抽真空；当炉温升到＞1175℃后直到冷却结束阶段，对加热炉进行气体调压，实时检测加热炉内气体压力，进行压力闭环调节；所述压力闭环调节是根据炉温范围选择进气调节和排气调节两种方式，进气调节时，恒定抽气量，调节进气流量；排气调节时，恒定进气流量，调节排气量。

2.一种实现权利要求1所述控制方法的控制系统，包括控制部分、进气系统和排气系统，其特征在于，所述进气系统包括一条由气体质量流量控制器和进气阀组成的支路和一条由手动旁通进气调节阀和旁通进气电磁阀组成的支路，两路支路均接入加热炉的进气口；加热炉的出气口连接有排气系统，其包括一条由真空阀和真空抽气比例阀组成的小抽支路和一条由真空主抽阀组成的大抽管路，同时，所述真空主抽阀通过一罗茨泵与真空抽气比例阀一同接入机械泵，最后机械泵接入排气口；其中控制部分包括与加热炉连接的真空规压力传感器，分别与真空规压力传感器连接的进气调节控制器和排气调节控制器，进气调节控制器和排气调节控制器分别接入进气系统中的气体质量流量控制器和排气系统中的真空抽气比例阀。

3.根据权利要求2所述控制系统，其特征在于，所述排气系统还包括一真空放气阀，通过罗茨泵接入机械泵。