[发明专利]抗刮耐磨电子装置及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种电子装置及其制造方法，尤其涉及一种抗刮耐磨电子装置及其制造方法。

背景技术

电子装置已广泛应用于日常工作和生活中，各种电子装置随着使用时间的增长，其表面会由于磨擦等原因而出现不同程度的磨损，从而影响电子装置的美观并使其价值下降。因此许多电子装置的表面都设置有一抗刮耐磨的保护膜。该保护膜是由UV胶形成，先将UV胶涂布于电子装置表面，然后将其置于特定波长的UV光下照射使其固化以形成该保护膜。

然而，UV胶成本较高，且使UV胶固化需要UV照射设备，这使得采用UV胶制得的保护膜成本较高；此外，UV胶形成的保护膜也会影响电子装置的美观。

发明内容

本发明的目的之一是针对上述现有技术的缺陷提供一种成本低且美观的抗刮耐磨电子装置。

本发明的另一目的是针对上述现有技术的缺陷提供一种成本低且美观的抗刮耐磨电子装置的制造方法。

为实现上述目的之一，本发明提供一种抗刮耐磨电子装置，其包括一保护膜，该保护膜是由纳米材料制得，其形成于电子装置的表面。

为实现上述另一目的，本发明提供一种抗刮耐磨电子装置的制造方法，其步骤如下：

步骤一，将纳米材料制成纳米涂布液；

步骤二，将纳米涂布液均匀涂布于电子装置表面；

步骤三，将涂布有纳米涂布液的电子装置在低于150℃的加热环境下或在室温下使纳米涂布液干燥形成一保护膜。

如上所述，本发明抗刮耐磨电子装置及其制造方法通过在电子装置表面形成一保护膜，从而达到抗刮耐磨的功效；并且该抗刮耐磨电子装置的制造方法中纳米涂布液可在较低温度下干燥并形成保护膜，从而该抗刮耐磨电子装置的制造成本较低。

具体实施方式

为详细说明本发明的技术内容、所实现目的及功效，以下举例详予说明。

本抗刮耐磨电子装置的制造方法包括如下步骤：

步骤一，将纳米材料和异丙醇以适当比例1∶1～3稀释并搅拌均匀，而制得纳米涂布液，其纳米材料可为纳米级的三氧化二铝(Al2O3)、氧化锆(ZrO2)、二氧化硅(SiO2)等氧化物，其直径设为8～10纳米左右，利用水解缩合反应而得；

步骤二，将纳米涂布液以喷涂、浸泡或擦拭的方式均匀地涂布于电子装置的表面；

步骤三，将已均匀涂布有纳米涂布液的电子装置在低于150℃的加热环境下或在室温下使纳米涂布液干燥，从而纳米涂布液于电子装置表面形成一连续性的保护膜。该保护膜的厚度越大，其抗刮耐磨能力越强，但厚度过大则会影响电子装置的美观，在不影响电子装置外观的情况下，此保护膜的厚度可为10～20微米。

本抗刮耐磨电子装置是在电子装置的表面设置一由上述制造方法形成的保护膜，从而达到抗刮耐磨的功效。

下面的非限定性实施例用来进一步说明本发明：

本实施例中使用的起始反应物为硅烷化合物，以该硅烷化合物制备得到纳米涂布液；以擦拭方式将纳米涂布液分别涂布于一连接线材及一手机外壳上，将连接线材及手机外壳都放置于105℃下，使纳米涂布液干燥，从而连接线材及手机外壳表面形成一厚度为17微米的保护膜。将连接线材置于线材耐磨试验机上作耐磨测试时，该具有保护膜的连接线材的耐磨能力约提升4.5％～9.3％。以抗刮规范ASTMD3363为测试标准对手机外壳表面进行测试时，该手机外壳表面的抗刮能力为2～3H。

如上所述，本发明抗刮耐磨电子装置及其制造方法通过在电子装置表面形成一保护膜，从而达到抗刮耐磨的功效；并且该抗刮耐磨方法中纳米涂布液可在较低温度下干燥并形成保护膜，从而该抗刮耐磨电子装置的制造成本较低。

综上所述，本发明之「抗刮耐磨电子装置及其制造方法」由上述揭露的方法与构造，可以达到所述的功效，且本发明的申请合乎专利的要件，故依法提出申请。然而，以上所揭露者，仅为本发明的较佳实施例，自不能以此限定本发明的权利范围。至于本发明的其它等效的修饰或变化，都应涵盖在本案的申请专利范围内。