[发明专利]大功率金属半导体场效应发光晶体管无效

专利信息
申请号: 200810028451.0 申请日: 2008-05-30
公开(公告)号: CN101290961A 公开(公告)日: 2008-10-22
发明(设计)人: 孙慧卿;郭志友;赵华雄;高小奇;曾坤;张建中;范广涵 申请(专利权)人: 华南师范大学
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 广州粤高专利代理有限公司 代理人: 何淑珍
地址: 510630广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 大功率 金属 半导体 场效应 发光 晶体管
【权利要求书】:

1、一种大功率金属半导体场效应发光晶体管,其特征在于在外延片的衬底(7)上包括中心区的n型电子发射层(9),边缘区的n型电子发射层(6),n型电子发射层的中心区(9)与边缘区(6)之间是闭合的栅极区(8),中心区的n型电子发射层(9)上面生长着量子阱层(5),量子阱层(5)上生长着p型空穴产生层(4),p型空穴产生层(4)的上面设置着漏极(3),在n型电子发射层的边缘区(6)上设置着源极(1),栅极区(8)上面设置着栅极(2)。

2、根据权利要求1所述的大功率金属半导体场效应发光晶体管,其特征在于所述栅极区(8)是圆形的或者椭圆形的。

3、根据权利要求1所述的大功率金属半导体场效应发光晶体管,其特征在于所述栅极区(8)是方形的。

4、根据权利要求3所述的大功率金属半导体场效应发光晶体管,其特征在于所述栅极区(8)是正方形的。

5、根据权利要求4所述的大功率金属半导体场效应发光晶体管,其特征在于所述栅极(2)是正方形的。

6、根据权利要求5所述的大功率金属半导体场效应发光晶体管,其特征在于所述源极(1)是正方形的。

7、根据权利要求6所述的大功率金属半导体场效应发光晶体管,其特征在于所述漏极(1)设置于p型空穴产生层(4)的中心。

8、根据权利要求6所述的大功率金属半导体场效应发光晶体管,其特征在于所述漏极(1)包括两个,对称设置于p型空穴产生层(4)之上,对称中心为p型空穴产生层的中心。

9、根据权利要求1所述的大功率金属半导体场效应发光晶体管,其特征在于源极(1)和栅极(2)均环绕着量子阱层(5)。

10、根据权利要求1至9任一项所述的大功率金属半导体场效应发光晶体管,其特征在于所述栅极区(8)的高度小于n型电子发射层(6,9)的高度。

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