[发明专利]一种紫外光固化真空镀膜底、面漆有效
| 申请号: | 200810027249.6 | 申请日: | 2008-04-03 |
| 公开(公告)号: | CN101250339A | 公开(公告)日: | 2008-08-27 |
| 发明(设计)人: | 何吉刚 | 申请(专利权)人: | 惠州市长润发涂料有限公司 |
| 主分类号: | C09D4/00 | 分类号: | C09D4/00;C09D175/14;C23C14/24 |
| 代理公司: | 广州粤高专利代理有限公司 | 代理人: | 罗晓林 |
| 地址: | 516221广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 紫外 光固化 真空镀膜 | ||
技术领域
本发明涉及一种紫外光固化涂料,尤其涉及与真空镀膜配套使用的涂料。
背景技术
真空镀膜技术又称物理气相沉积技术(PVD),是在真空条件下,将金属镀在塑胶基材的表面而形成复合薄膜的一种新工艺,被镀金属材料可以是金、银、铜、锌、铬、铝等,从而实现塑胶外观金属化,为了使镀层平展,有金属光泽、亮度等性能,则需要在镀膜前后分别在被镀件上底面漆的涂装处理。中国专利CN1281011是一种种紫外光固化真空镀膜底、面漆,度漆由丙烯酸改性双酚A环氧树脂、多元醇和丙烯酸羟乙酯与甲苯二异氢酸酯加成物、反应性稀释剂、光引发剂、助剂组成,面漆由聚酯丙烯酸酯、酚醛环氧丙烯酸酯、活性稀释剂、光引发剂、附着促进剂、助剂组成,上述组成均按一定的重量百分比配比后,混合搅拌均匀,制得,随着现代数码产品日趋小型化、精巧化,现有的这些涂料使得被镀件镀层附着力差,被镀件表面不平整、耐磨性差等缺点。
发明内容
本发明需解决真空镀膜层的平整度和附着力差,以及防止金属膜层氧化的问题。
本发明所采用的技术方案是:一种紫外光固化UV真空镀膜底、面漆:
底漆由二官能脂肪族聚氨酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、三官能丙烯酸酯、二官能丙烯酸酯、附着力促进树脂、光引发剂、稀释剂、助剂任意配比组成;面漆由高官能脂肪族聚氨酯丙烯酸酯、大分子树脂、二官能脂肪族聚氨酯丙烯酸酯、三官能脂肪族聚氨酯丙烯酸酯、附着力促进树脂、光引发剂、稀释剂、助剂任意配比组成。
进一步:上述底漆的组成为:二官能脂肪族聚氨酯丙烯酸酯5~30wt%、环氧丙烯酸酯10~40wt%、三官能丙烯酸酯5~25wt%、二官能丙烯酸酯5~25wt%、附着力促进树脂5~10wt%、光引发剂1~5wt%、稀释剂20~60wt%、助剂0.01~1wt%;面漆组成为:高官能脂肪族聚氨酯丙烯酸酯5~20wt%、大分子树脂10~30wt%、二官能脂肪族聚氨酯丙烯酸酯5~20wt%、三官能脂肪族聚氨酯丙烯酸酯10~20wt%、附着力促进树脂1~5wt%、光引发剂1~5wt%、稀释剂20~60wt%、助剂0.01~1wt%。
上述底面漆中所述的附着力促进树脂是乙烯-醋酸乙烯共聚物、丙烯-醋酸乙烯共聚物、苯氧基二甲基硅烷化合物中的一种或两种;所述的光引发剂是苯基亚膦酸二乙酯、二苯甲酮、α一羟基异丙基苯甲酮、α一羟基环己基苯甲酮中的一种或几种,这些光引发剂具有较高的光敏性和热稳定性;所述的稀释剂是己二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酶、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯中的一种或几种;常用的助剂有阻聚剂、消泡剂、流平剂和颜填料等助剂,它们的主要作用是改善涂料性能,增加紫外光敏感性,降低施工难度。
将上述紫外光固化UV真空镀膜底、面漆应用于真空镀膜技术,即用真空镀膜PVD技术镀手机、MP3、数码相机等数码电子产品的按键、视窗、外壳之前,将基材表面做上述底漆的涂装处理,增加了真空镀膜层的平整度和附着牢度;在真空镀膜之后,对真空镀膜层做UV真空镀膜面漆的表面涂装处理,防止金属膜层氧化,赋予其优异表面耐磨性和极佳手感。将经过上述底漆处理的基材,具有金属特有的质感、光泽,并很大程度地提高了表面耐磨性和手感。
用上述紫外光固化UV真空镀膜底、面漆与真空镀膜PVD技术配套处理过的手机、MP3、数码相机等数码电子产品的外壳具有以下优点:
1、涂层与金属膜层之间的附着力强;
2、环境测试性能优异,通过了耐盐雾、耐水煮、高温高湿、冷热循环等测试,涂层完好无损;
3、优异的耐磨性,RCA耐磨测试达500次以上,表面无磨损。
具体实施方式
以下实施例中紫外光固化UV真空镀膜底、面漆优选的配方是随机的,这些配方为非限定性实施方式,其只是用于具体说明本发明,本领域的技术人员完全可以根据本发明的思路和选料配比筛选出的配方均为本发明的保护范围。
实施例1
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠州市长润发涂料有限公司,未经惠州市长润发涂料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810027249.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





