[发明专利]等离子体显示装置无效

专利信息
申请号: 200810025538.2 申请日: 2008-04-29
公开(公告)号: CN101271807A 公开(公告)日: 2008-09-24
发明(设计)人: 郑闵訇 申请(专利权)人: 乐金电子(南京)等离子有限公司
主分类号: H01J17/49 分类号: H01J17/49;H01J17/02
代理公司: 南京苏高专利商标事务所 代理人: 陈扬
地址: 210038江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 等离子体 显示装置
【说明书】:

技术领域

发明是关于等离子体显示装置的,特别是关于提高明室对比度,降低驱动噪音的等离子体显示装置的。

背景技术

等离子体显示面板(Plasma Display Panel,以下称为PDP)是,向安装在放电空间中的电极负加一定的电压,产生放电,在进行气体放电时,等离子体激发荧光体,从而显示包含文字或图表的图像的显示装置,其大型化及轻巧化,超大化交易实现,提供上下左右较宽的视角,可以实现全彩(full color)及高亮度图像的显示。

但是,现有技术中的等离子体显示装置,在形成隔层时,隔层上部(Riptop)被显像液冲洗,从而导致隔层高度不一的问题。又,为了漏光而需要DFR,因此,在形成隔层后,还需要清除DFR(Dry Film Photoresist)的工序,导致制造工序的繁琐。因此,将提高制造费用,由于上述不规则的隔层高度,在驱动等离子体显示装置时,与上部基板产生摩擦,从而产生噪音。

发明内容

为了解决上述问题,本发明的目的在于:改善显像时隔层被冲洗的现象,从而提供降低噪音,提高明室对比度(contrast)的等离子体显示装置。

为了达到上述目的,本发明中的等离子体显示装置,包含:具备定位电极的下部基板;位于上述下部基板上的隔层;位于上述隔层上的黑层。上述隔层及上述黑层由感光性材料形成。

其中,上述黑层具有0.5μm至0.8μm的厚度。

又,上述黑层,包含:钴(cobalt)氧化物或铷(rubidium)系的金属粒子。上述黑层的玻璃熔块(glass frit)含量为10~40wt%。

上述隔层及上述黑层,由包含隔层粘膜(paste)层与黑层粘膜(paste)层的感光性印刷电路基板(green sheet)形成。

如上所述的,本发明中的等离子体显示装置,在隔层与黑层中使用感光性材料,因此,无需另外使用DFR,从而可以减少DFR清除过程,使制造工序更加简单,并且可以降低制造成本。又,由于隔层上部被黑层保护,可以防止隔层上部腐蚀,减少驱动时的噪音,并且,由于上述黑层,可以提高明室对比度(contrast)。

附图说明

图1是本发明中,等离子体显示装置的结构剖面图。

图2是本发明中,形成隔层与黑层的印刷电路基板(green sheet)的结构剖面图。

图3是本发明中,在等离子体显示装置中形成隔层与黑层的过程示意图。

<图示中主要部分的符号说明>  

100:下部面板                   10:下部基板

120:定位电极                   130:下部电介质

200:印刷电路基板(green sheet)  210:隔层,隔层粘膜

(paste)

220:黑层,黑层粘膜(paste)      M:网罩(mask)

L:光                           E:显像液

具体实施例

下面,举较佳实施例,并配合附图对本发明中的等离子体显示装置详细说明如下。

图1是本发明中,  等离子体显示装置的结构剖面图。

参考图1,本发明中的等离子体显示装置,其下部基板110上形成定位电极120。

并且,为了覆盖定位电极120而形成下部电介质层130,下部电介质层130上形成隔层210。

将包含下部基板110与定位电极120与下部电介质层130的,称为下部面板100。

隔层210由感光性材料形成,感光性材料包含:感光性单体(monomer)或感光性聚合物(polymer)成分,然,并非受限于此,可以包含能够被光的照射而软化的材料。

感光性材料,在隔层的制造过程中具有粘性(paste)状态,还包含:在丙烯酸酯类树脂(acrylic resin)等基本树脂中添加重合开始材的介质,与隔层材料,即玻璃熔块(glass frit)成分。

隔层210上将形成黑层220。黑层220亦与隔层210相同,由感光性材料形成。又,还包含:黑色染料或黑色颜料成分。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于乐金电子(南京)等离子有限公司,未经乐金电子(南京)等离子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810025538.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top