[发明专利]一种光扩散片及其制作方法无效
申请号: | 200810020793.8 | 申请日: | 2008-02-27 |
公开(公告)号: | CN101231462A | 公开(公告)日: | 2008-07-30 |
发明(设计)人: | 申溯;陈林森;周雷;张恒;解正东;魏国军 | 申请(专利权)人: | 苏州大学;苏州苏大维格数码光学有限公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G02B5/02;G02F1/13357 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 陶海锋 |
地址: | 215123江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 扩散 及其 制作方法 | ||
1.一种光扩散片的制作方法,其特征在于:包括下列步骤:
(1)制作至少具有一个微透镜结构的压印模仁;
(2)设定计算机控制程序、压印参数及图形文件;
(3)采用微纳米热压印或紫外压印的方法,将步骤(1)中的压印模仁,根据步骤(2)中的控制程序及图形文件,压印于待压印的基材第一压印工作位置上,基材得到相应个数的凹形微透镜;
(4)根据压印参数,改变压印模仁与待压印基材的相对位置,至下一个压印工作位;
(5)重复步骤(3)和(4),直至完成所有压印程序。
2.根据权利要求1所述的光扩散片制作方法,其特征在于:将步骤(5)印制所得作为母版,通过精密电铸工艺转移至金属板上,得到压印模板,利用该压印模板通过平面对平面或卷对卷方式压印于光扩散片的基材上,获得所需的光扩散片。
3.根据权利要求1所述的光扩散片制作方法,其特征在于:所述步骤(4)中,压印模仁与待压印基材的相对位置具有的位移自由度为,以待压印基材所在平面为x-y平面,两者间具有x轴和y轴方向的平移运动自由度,通过x轴和y轴的平移运动到达下一压印工作位;通过压印模仁在z轴方向的平移,完成压印。
4.根据权利要求1所述的光扩散片制作方法,其特征在于:所述基材上的凹形微透镜为半圆球形,球直径为0.01mm~0.1m。
5.根据权利要求1所述的光扩散片制方法,其特征在于:步骤(2)中所述压印参数包括:微透镜结构的分布位置、保压时间、压力大小、加热温度参数,该参数的设定由预先设定的计算机程序及图形文件控制。
6.根据权利要求1或2所述的光扩散片制作方法,其特征在于:所述压印模仁由复数个微透镜结构阵列组成,该阵列图形由预先设计的计算机程序控制,阵列尺寸在0.05mm×0.05mm至5mm×5mm之间。
7.一种光扩散片,包括透明基材层和光扩散层,其特征在于:所述光扩散层由设置于所述基材层一侧表面的复数个凹形微透镜构成,光扩散层与所述基材层为一体结构。
8.根据权利要求7所述的光扩散片,其特征在于:所述凹形微透镜为半圆球形或半椭球形,所述基材层为薄膜型或是板材型中的一种。
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