[发明专利]电脑硬盘配件的托盘清洗工艺

说明书

技术领域

本发明属于无尘环境下的清洗方法，具体地说是一种电脑硬盘配件的托盘清洗工艺。

背景技术

随着当今世界电子技术的快速发展，电脑硬盘产品更新换代周期也日趋频繁。作为世界最大的电脑硬盘供应商，美国希捷公司不断更新自己的产品，同时对产品部件的各项性能提出了更高的要求，特别是在洁净度上要求越来越高。

传统的托盘清洗方式适合于清洗注塑和吸塑型托盘。其清洗原理是：从水泵打出高压水(压力在50pis-80psi，流量在12GPM)，通过特殊设计的喷嘴，形成45度的扇型状水柱喷射在托盘表面，把托盘表面的可移动颗粒冲刷下来。冲刷分为四组，第一组是0.3％的IC910和纯净水的混合水，第二、三、四分别为纯净水，同时有1GPM的纯净水不断的注入第四水箱，第四水箱的水溢流到第三水箱，再溢流到第二水箱，第一水箱是单独进水和进清洗药剂。在第一组喷淋中增加清洗剂IC910的目的是增加表面张力，从而到达易清洗的作用，第二组喷淋的作用是冲刷托盘表面的药剂和颗粒，第三、四组喷淋的作用是冲刷托盘表面的颗粒。第一、二、三、四组喷淋依次经过1um、0.8um、0.45um、0.1um过滤，水温都是50±5℃。每片托盘在四组喷淋中各冲刷45秒，然后在经过高速风机吹干托盘表面的水珠，风机吹出的高压风是经过0.3um过滤的干净风，风的温度达到50-60℃。目的是用于保证产品的洁净度。经过这一流程清洗出来的产品洁净度可以达到140。此种托盘可以用于对洁净度要求很高的行业，如硬盘和半导体行业。

由于托盘的表面结构比较复杂，存在着“死区”，即喷淋无法达到的区域，而这区域也是最“脏”的区域。如果按照传统的清洗方式，它的洁净度无法满足硬盘和半导体行业的要求。所以必须要解决“死区”洁净度问题，又要使整片托盘的洁净度达到更高的层次。

发明内容

本发明的目的在于提供一种电脑硬盘配件的托盘清洗工艺，利用本发明的方法可以很容易清洗托盘死区的颗粒，从而大大提高托盘表面的洁净度。

按照本发明提供的技术方案，所述托盘的超清洁度清洗工艺包括：

a、货淋：利用过滤后的风吹掉托盘表面的颗粒；再将托盘运至1000级环境中；所述的风已经过利用过滤器滤掉大于0.3um的颗粒，并且在对风进行过滤时的过滤效率为99.99％；

b、预清洗：先将托盘在超声波容器中进行超声波清洗，超声波频率在60～68KHz，功率0.9～1KW，纯净水温度为30～46℃，超声波作用时间13～15秒；

c、第一道喷淋：经过超声波预清洗后再经过第一道喷淋，所喷的纯净水中含有0.3％～0.33％的重油污清洗剂IC910，温度30～46℃，喷淋的压力在206000～300600帕斯卡，流量在38～45升/分钟，作用时间在35～40秒；并利用过滤器过滤掉纯净水中大于1um的颗粒；

d、吹干：喷淋结束后，托盘进入吹干过程，由高速风机吸入经过过滤的干净的空气后，以高速喷出，吹在托盘表面，吹掉托盘表面的水珠；所述的风已经利用过滤器过滤掉大于0.3um的颗粒，并且在对风进行过滤时的过滤效率为99.99％；

e、烘干：将吹干以后的托盘送入烘箱内，以烘干托盘表面的水气；烘箱温度45～55℃，烘干时间50～55秒；

f、包装：最后将托盘送到100级的环境下，由身着无尘服的员工在托盘冷却到室温后进行包装。

在进行货淋前先进行预处理：去除托盘表面的标签与杂物。

在货淋后，预清洗前，先将托盘放在托盘专用的夹具中，然后将夹具连同托盘放在清洗机上。

经过第一道喷淋后接着再经过第二道喷淋，所喷的液体为纯净水，温度30～46℃，并利用过滤器过滤掉大于0.8um的颗粒，其喷淋的压力大于在206000～300600帕斯卡，流量大于38～45升/分钟，作用时间35～40秒。

经过第二道喷淋后接着再经过第三道喷淋，所喷的液体为纯净水，温度30～46℃，并利用过滤器过滤掉大于0.45um的颗粒，其喷淋的压力大于在206000～300600帕斯卡，流量大于38～45升/分钟，作用时间35～40秒。

经过第三道喷淋后接着再经过第四道喷淋，所喷的液体为纯净水，温度30～46℃，并利用过滤器过滤掉大于0.1um的颗粒，其喷淋的压力大于在206000～300600帕斯卡，流量大于38～45升/分钟，作用时间长达35～40秒。

在喷淋用的管道上安装在线颗粒仪(LPC)，利用在线颗粒仪来在线监测水中的颗粒；在喷淋用水箱内安装电阻率传感器，以保证水的洁净度。