[发明专利]新型精密研磨抛光机无效

专利信息
申请号: 200810015427.3 申请日: 2008-03-20
公开(公告)号: CN101249633A 公开(公告)日: 2008-08-27
发明(设计)人: 刘俊成;王友林;张红鹰;李昌兴 申请(专利权)人: 山东理工大学
主分类号: B24B29/00 分类号: B24B29/00
代理公司: 淄博科信专利商标代理有限公司 代理人: 吴红
地址: 255086山东省淄博市*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 新型 精密 研磨 抛光机
【说明书】:

技术领域

发明属于精密研磨抛光机设备,具体是一种用于半导体材料、陶瓷材料及金属材料样品的新型精密研磨抛光机。

背景技术

通常的金相试样抛光机结构中,电机带动磨盘旋转,转速较快,一般设有一个或几个固定转速,工作时需手持样品或载料块,在砂纸或者抛光布上进行研磨抛光。这种抛光机主要研磨金属或者陶瓷试样,结构简单,操作方便。由于人工手持样品,样品容易磨偏,磨削量也难于精确控制。国内现有的精密研磨抛光机,大多采用二到三个方位的夹具夹持修整环,环内放置载料块,样品粘接于载料块下面,主要依靠载料块自重研磨材料,有的则需手持载料块;当样品上下表面平行度较低或者厚度不均匀,样品极易磨偏,磨削量也不易控制。国外报道的精密研磨抛光机,磨盘采用可升降机构或者采用弹簧加压装置调节磨盘与工件之间的压力,研磨量也不能精确控制;当样品平整度较低或者厚度不均匀时,样品也容易磨偏。对于功能半导体材料或者其它功能材料,试样厚度和上下表面平行度显著影响材料的光电及其它性能数据的测试。

发明内容

本发明的目的是提供一种能克服上述缺点,保证试样上下表面平行度、精确控制磨削量的新型精密研磨抛光机。其技术方案为:

一种新型精密研磨抛光机,包括设有研磨抛光材料的抛光盘及其驱动装置、位于抛光盘下方带出水口的机架和样品的固定调节装置,其特征在于:样品的固定调节装置包括底座、互相平行的导向柱及精密丝杠、平行于抛光盘的顶盘和中盘,其中精密丝杠经轴承垂直安装于顶盘和底座之间,导向柱的上、下两端通过螺栓分别与顶盘、底座垂直固定连接,中盘安装在顶盘和底座之间且位于抛光盘的上方,其通孔与导向柱间隙配合,其螺纹孔与精密丝杠配成螺栓螺母副,精密丝杠的上端配装手柄;中盘的中心设有吊环,与顶盘上的滑轮机构、配重通过钢丝绳连接形成配重机构;中盘上设有呈辐射状排列的导轨,导轨上设有等距离的螺纹盲孔,滑动架安装在导轨上并沿着导轨滑动;载料块镶嵌在轴承中,轴承安放在滑动架中,二者为间隙配合;样品固定在载料块的底面;载料块内部为中空结构,空腔中放置若干配重块。

所述的新型精密研磨抛光机,中盘上设有辐射状排列的一条或者多条导轨,每条导轨上设有一个或者多个滑动架。

所述的新型精密研磨抛光机,轴承与滑动架形成塞杆-套筒结构。

所述的新型精密研磨抛光机,设有光电千分尺,起始端用螺钉固定在顶盘上,测量显示盒固定在中盘上。

本发明与现有技术相比,其优点为:

1、由于镶嵌有载料块的轴承安放在滑动架中央、滑动架固定在导轨上,轴承与滑动架二者为间隙配合形成塞杆-套筒结构,轴承可以上下自由滑动而不发生倾斜。样品固定在载料块的底面,当样品的下表面,亦即磨削面偏离抛光盘的平行面时,此结构能够给予有效修正,保证了样品上下表面的平行度。

2、载料块镶嵌在一选定的轴承中,该轴承安放在滑动架中央,二者为间隙配合。当样品的下表面磨削时,下表面和研磨抛光材料之间产生摩擦力;如果磨削面上受到的摩擦力不平衡而相对于载料块中心轴线产生一定的力矩时,样品和载料块可以发生转动。

3、中盘的每条导轨上可设有多个滑动架,这样样品在中盘上的径向位置就可以调整,一次装夹安装多个样品,提高了研磨抛光材料或者其它磨削材料的利用率。很多个样品的同时抛光极大地提高了抛光机的抛光效率。

4、精密丝杠上端配装手柄,转动手柄可以使中盘沿着导向柱上下垂直运动,从而可以控制样品的磨削量。

5、载料块内部为中空结构,空腔中可以放置若干配重块,这样通过调节载料块的自重和多寡调节施加在样品上的压力,以此来控制磨削速度。

本设备可以有效地防止样品磨偏,精确控制磨削量,材料耗费少而效率高。

附图说明

图1是本发明实施例的结构示意图;

图2是图1所示实施例中部分的A-A剖面图;

图3是图1中设有导轨和滑块机构的中盘的俯视图。

图中:1、底座  2、机架  3、载料块  4、7、17、22、轴承  5、中盘  6、精密丝杠8、顶盘  9、手柄  10、导向柱  11、滑轮机构  12、滑动架  13、导轨  14、光电千分尺15、配重  16、涡轮蜗杆减速器  18、研磨抛光材料  19、抛光盘  20、出水口  21、主轴23、电机  24、配重块  25、螺钉  26、样品  27、吊环

具体实施方式

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