[发明专利]一种具有磁场增强和调节功能的磁控溅射靶

权利要求书

1.一种具有磁场增强和调节功能的磁控溅射靶，包括靶体、内部磁路和水冷系统，其特征在于该靶在正磁环后部与导磁轭铁相接处的导磁轭铁外部，设置径向充磁的侧磁环；在靶的下部设有双级位置调节机构。

2.按照权利要求1所述的具有磁场增强和调节功能的磁控溅射靶，其特征在于所述径向充磁的侧磁环其轴向高度等于或略小于导磁轭铁的侧边高度；侧磁环的径向厚度为正磁环径向厚度的1/2～1/3，中心磁柱、正磁环和侧磁环的充磁方向与装配关系有固定要求，当中心磁柱上表面为S极时，正磁环上表面为N极，侧磁环外表面为N极；当中心磁柱上表面为N极时，正磁环上表面为S极，侧磁环外表面为S极。

3.按照权利要求1所述的具有磁场增强和调节功能的磁控溅射靶，其特征在于所述双级位置调节机构是在冷却水管外设有靶管，在左右两靶管中心位置设有长螺杆，长螺杆通过靶管提升座板和靶管螺帽、靶管压垫、靶管半卡环、靶管套垫，与靶座的套管绝缘连接，靶管提升座板通过螺钉和中间压板固定短螺套，短螺套通过螺纹与水管提升座板连接，水管提升座板通过圆螺母、圆螺母垫片、水管小压垫、水管小套垫和水管小半环，与导磁轭铁组焊件的冷却水管绝缘连接。