[发明专利]多晶硅片水基清洗剂无效
| 申请号： | 200810011319.9 | 申请日： | 2008-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN101265441A | 公开（公告）日： | 2008-09-17 |
| 发明（设计）人： | 张魁兰 | 申请（专利权）人： | 大连三达奥克化学股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/835 | 分类号： | C11D1/835;C11D3/37;C11D3/20;C11D3/10;C11D3/30 |
| 代理公司： | 大连非凡专利事务所 | 代理人： | 闪红霞 |
| 地址： | 116023辽宁省大连市高新技术园*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多晶 硅片 水基清 洗剂 | ||
1.一种多晶硅片水基清洗剂，其特征在于是浅黄色透明液体，有如下组分和重量百分配比：
表面活性剂 20～40
溶剂 5～15
光亮剂 10～20
分散剂 10～18
PH调节剂 15～20
去离子水 30～40。
2.根据权利要求1所述的多晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述的表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、烷醇酰胺、聚季胺盐、改性聚胺阳离子中的一种或两种。
3.根据权利要求1所述的多晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述的脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚为8～9个碳的伯醇或仲醇，乙氧基为8～10个，丙氧基为3～6。
4.根据权利要求2或3所述的多晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述脂肪醇聚氧乙烯醚为8～14个碳的醇，乙氧基为3～6个。
5.根据权利要求4所述的多晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述烷醇酰胺为16～18个碳的月桂基或椰子油基。
6.根据权利要求1所述的多晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述的溶剂为乙醇、萜烯、C8～C12醇混合脂、低碳醇混合脂中的一种或两种。
7.根据权利要求1所述的多晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述PH调节剂为单乙醇胺、碳酸钠、乳酸、柠檬酸、羟基乙酸的一种或三种。
8.根据权利要求1所述的多晶硅片水基清洗剂，其特征在于：所述的光亮剂为甲基甘氨酸钾、改性马来酸和丙烯酸聚合物、改性聚合物钠的一种或两种。
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