[发明专利]基片支架组件无效
| 申请号: | 200810008212.9 | 申请日: | 2008-02-13 |
| 公开(公告)号: | CN101246835A | 公开(公告)日: | 2008-08-20 |
| 发明(设计)人: | 克里斯多佛·理查德·马洪;阿布海杰特·德塞;罗伯特·T·海拉哈拉 | 申请(专利权)人: | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/00;C23F4/00;C23C16/458;C23C16/44;C23C14/50;C30B25/12 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 支架 组件 | ||
1.一种用于在具有加工区域和室组件的加工室中支撑基片的支架组件,该支架组件包括:
(a)包括电极的支架块;
(b)用于在加工室中保持支架块的支臂,该支臂具有穿过其中的沟槽,并且该支臂包括附着到支架块的第一夹具和附着到室组件的第二夹具;
(c)多个穿过支臂沟槽的电导体;以及
(d)包括环形圆盘的盖锁,该环形圆盘的形状和尺寸适于安放在直接在第一夹具之下的支臂中,该盖锁用于覆盖支臂沟槽中电导体并将其与加工区域的环境密封。
2.根据权利要求1所述的组件,其中支架块包括介电块。
3.根据权利要求1所述的组件,其中支架块由硅或石英构成。
4.根据权利要求1所述的组件,其中盖锁包括周界和中心,并且其中沟槽从周界延伸到中心,以便允许电导体到中心的通过。
5.根据权利要求4所述的组件,其中盖锁包括具有多个用于安放螺钉头部的U形切口的顶部表面。
6.根据权利要求5所述的组件,其中以大约120°的角度分隔布置U形切口。
7.根据权利要求1所述的组件,其中盖锁的环形圆盘包括具有外围凹槽的底部表面,并且其中该组件还包括安装在该外围凹槽中的陶瓷锁紧环。
8.根据权利要求7所述的组件,其中陶瓷锁紧环包括C形夹具。
9.根据权利要求7所述的组件,其中陶瓷锁紧环包括氧化铝。
10.根据权利要求1所述的组件,其中多个电导体包括(i)热电偶、和(ii)电接地连接体。
11.根据权利要求10所述的组件,其中电接地连接体包括电连接到电极的第一接线端和适于使电极电接地的第二接线端。
12.根据权利要求10所述的组件,其中盖锁包括形状和尺寸适于安装在直接在第一夹具之下的支臂中的硅环形圆盘,并且还包括周界、中心、以及从盖锁周界向中心延伸的用于允许支臂中的电接地连接体和热电偶通过的沟槽,以便保护电接地连接体和热电偶免受加工区域环境的影响。
13.一种刷新权利要求10所述基片支架组件的方法,该方法包括:
(a)通过将支架块或支臂浸入到清洗溶液中,清洗一个或多个支架块和支臂;
(b)替换支架臂沟槽中的一个或多个热电偶和电接地连接体;以及
(c)替换热电偶和电接地连接体附近的支架臂中的硅盖锁。
14.根据权利要求13所述的方法,其中(a)包括将一个或多个支架块和支臂浸入到包括酸性或碱性物种的溶液中。
15.一种包括权利要求10所述支架组件的加工室,该加工室还包括:
(a)围绕支架组件的围护壁;
(b)用于在加工室中提供加工气体的气体分布器;
(c)用于激发加工气体的气体激发器;以及
(d)用于排出加工气体的排气装置。
16.一种用于能够在具有加工区域和室组件的加工室中支撑基片的支架组件的盖锁,该支架组件包括(i)包括电极的支架块,(ii)用于在加工室中保持支架块的支臂,该支臂包括附着到支架块的第一夹具和附着到室组件的第二夹具,并且该支臂具有穿过其中的沟槽,以及(iii)多个穿过支臂沟槽的电导体,该盖锁包括:
形状和尺寸适于安装在直接在第一夹具之下的支臂中的环形圆盘,该环形圆盘包括周界、中心、以及从盖锁周界向中心延伸的用于允许电导体通过的沟槽,以及
其中盖锁用于覆盖电导体并将其与加工区域的环境密封。
17.根据权利要求16所述的盖锁,其中环形圆盘由硅或石英构成。
18.根据权利要求16所述的盖锁,其中盖锁包括具有多个用于安放螺钉头部的U形切口的顶部表面,以大约120°的角度分隔布置U形切口。
19.根据权利要求16所述的盖锁,其中环形圆盘包括具有外围凹槽的底部表面,并且还包括安装在外围凹槽的陶瓷锁紧环。
20.根据权利要求19所述的盖锁,其中陶瓷锁紧环包括由氧化铝构成的C形夹具。
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