[发明专利]液体密封单元以及具有该液体密封单元的浸没式光刻装置

权利要求书

1.一种液体密封单元，包括：

存储容器，所述存储容器被配置为容纳液体并具有形成于其中且被配置为能使得光穿过其传输的光学喷嘴孔；和

密封部分，所述密封部分被配置为容纳与在所述光学喷嘴孔中所容纳的所述液体接触的流体。

2.根据权利要求1所述的液体密封单元，其中，所述密封部分包括被配置为存储预定量流体的槽。

3.根据权利要求2所述的液体密封单元，其中，所述密封部分还包括：

清洗部分，所述清洗部分被配置为清洗所述液体，所述清洗部分包括被配置为保持容纳在所述光学喷嘴孔中的所述液体处于预定液位的液位保持单元，和被配置为对存储在所述槽中的所述流体进行循环的循环单元。

4.根据权利要求3所述的液体密封单元，其中：

所述液位保持单元包括：

传感器，所述传感器被配置为测量存储在所述光学喷嘴孔中的所述液体的液位，

流体通道，所述流体通道设置在所述存储容器中以与所述光学喷嘴孔相通以流动所述液体，

第一泵，所述第一泵与所述流体通道相通，

液体存储容器，所述液体存储容器与所述第一泵相通以存储所述液体，以及

第一控制器，所述第一控制器电连接到所述传感器以控制所述第一泵，从而保持所测量的所述液体的液位基本上等于预设参考液位，以及

所述循环单元包括：

循环通道，所述循环通道形成在所述槽的一侧和所述槽的另一侧之间，

过滤器，所述过滤器被安装在所述循环通道上，

第二泵，所述第二泵被安装在所述循环通道上，以及

第二控制器，所述第二控制器电连接到所述第二泵以控制所述第二泵的操作。

5.根据权利要求1所述的液体密封单元，其中，所述密封部分被配置为通过以与由所述液体施加的第一压力相对应的第二压力将所述流体压向所述液体来在所述光学喷嘴孔的界面处密封所述液体，所述第二压力通过将所述流体与所述界面处暴露的所述液体的表面相接触来施加。

6.根据权利要求5所述的液体密封单元，其中，所述流体具有基本上与所述液体相同的比重。

7.根据权利要求5所述的液体密封单元，其中，所述流体具有大于所述液体的比重的比重。

8.根据权利要求5所述的液体密封单元，其中，所述密封部分具有槽，所述槽被配置为存储预定量的所述流体，其中浸没了一部分所述存储容器。

9.根据权利要求5所述的液体密封单元，其中，所述密封部分还包括液位保持单元，所述液位保持单元被配置为保持所述光学喷嘴孔中存储的所述液体的液位，所述液位保持单元包括：

传感器，所述传感器被配置为测量在所述光学喷嘴孔中存储的所述液体的所述液位，

流体通道，所述流体通道设置在所述存储容器中以与所述光学喷嘴孔相通以流动所述液体，

第一泵，所述第一泵与所述流体通道相通，

液体存储容器，所述液体存储容器与所述第一泵相通且被配置为存储所述液体，以及

第一控制器，所述第一控制器电连接到所述传感器，以控制所述第一泵从而保持所测量的所述液体的所述液位基本上等于预设参考液位。

10.根据权利要求1所述的液体密封单元，其中，所述密封部分还包括超声清洗设备。

11.一种浸没式光刻装置，具有液体密封单元，包括：

存储容器，所述存储容器被配置为容纳液体并具有形成于其中且被配置为能使光穿过其传输的光学喷嘴孔；

晶片台，所述晶片台被配置为接收晶片，所述晶片台可移动到所述存储容器的下部；

密封部分，所述密封部分被配置为容纳与在所述存储容器下方的所述光学喷嘴孔中所容纳的所述液体接触的流体；以及

移动部分，所述移动部分被配置为移动所述密封部分至所述存储容器的所述下部。

12.根据权利要求11所述的浸没式光刻装置，其中，所述密封部分具有被配置为存储预定量的所述流体的槽。