[发明专利]用于硬涂布层的组合物、使用该组合物的硬涂布膜以及包含该硬涂布膜的抗反射膜无效

专利信息
申请号: 200810003196.4 申请日: 2008-01-15
公开(公告)号: CN101372537A 公开(公告)日: 2009-02-25
发明(设计)人: 金相弼;李文馥;徐基奉;严相烈;崔淳旭 申请(专利权)人: 东丽世韩株式会社
主分类号: C08J7/06 分类号: C08J7/06;G02B1/11
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 王海川;樊卫民
地址: 韩国庆*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 用于 硬涂布层 组合 使用 硬涂布膜 以及 包含 反射
【权利要求书】:

1.用于形成硬涂布层的组合物,其特征在于,基于组合物的总重量,该组合物包括:

(a)35至50重量%的二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA);

(b)35至40重量%的二季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA);

(c)3至10重量%的N-乙烯基吡咯烷酮;

(d)9至50重量%的多异氰酸酯;和

(e)1至5重量%的UV吸收剂。

2.权利要求1中所述的组合物,其特征在于,所述UV吸收剂是羟苯基苯并三唑类,其为例如辛基-3-[3-叔丁基-4-羟基-5-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)苯基]丙酸酯、2-(2-羟基-3-叔丁基-5-甲基苯基)-5-氯苯并三唑或2-(2H-苯并三唑-2-基)-对甲酚。

3.权利要求1中所述的组合物,其特征在于,用于形成硬涂布层的该组合物在380nm下的UV透射率为5%或更低。

4.包含基底膜和硬涂布层的硬涂布膜,其特征在于,硬涂布层是采用权利要求1中所述的用于形成硬涂布层的组合物形成的。

5.权利要求4中所述的硬涂布膜,其特征在于,基底膜是聚酯膜,其在400至800nm下的光透射率为40%至99.5%,其雾度为0.1%至5%。

6.权利要求5中所述的硬涂布膜,其特征在于,聚酯基底膜厚度为10至500μm,硬涂布层厚度为0.1至30μm。

7.包含权利要求4至6中任一项所述的硬涂布膜的抗反射膜,其特征在于,该抗反射(AR)膜包含按顺序施加到硬涂布层上的高折射率层(B)和低折射率层(A)。

8.权利要求7中所述的抗反射膜,其特征在于,

(1)该AR膜在400至700nm的表面反射光谱的最低反射率为0至0.6%,

(2)其在400nm的反射率为0至3.5%,和

(3)其在700nm的反射率为0至3%。

9.权利要求7中所述的抗反射膜,其特征在于,高折射率层(B)和低折射率层(A)各自的折射率与厚度之积分别为目标光线(通常是可见光线)波长的1/4。

10.权利要求7中所述的抗反射膜,其特征在于,高折射率层(B)的厚度为0.01至1.0μm,低折射率层(A)的厚度为0.01至1.0μm。

11.权利要求7中所述的抗反射膜,其特征在于,基于固体含量比例,低折射率层(A)的配置比例为0.2至0.4的硅烷偶联剂、0.2至0.4的具有烷氧基甲硅烷基的氟树脂和0.2至0.6的二氧化硅粒子,对于高折射率层(B)的组分而言,粘结剂组分(a)与金属化合物粒子(b)的重量比[(a)/(b)]为10/90至30/70。

12.权利要求7中所述的抗反射膜,其特征在于,进一步包含粘合剂层,所述粘合剂层施加在聚酯基底膜的一侧上,且包含诸如颜料或染料的着色剂,所述聚酯基底膜的另一侧上提供有硬涂布层。

13.一种能够控制光学特性的材料,其被施加到聚酯基底膜的一侧上,在聚酯基底膜的另一侧上施加有权利要求4中所述的硬涂布层,所述材料包含诸如颜料或着色剂的着色剂。

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