[发明专利]磁记录介质及其制造方法无效
| 申请号: | 200810001530.2 | 申请日: | 2008-01-04 |
| 公开(公告)号: | CN101221773A | 公开(公告)日: | 2008-07-16 |
| 发明(设计)人: | 伊藤健一;菊地英幸;中尾宏;大岛弘敬;马田孝博;益田秀树;西尾和之;竹内光生;伊达仁昭 | 申请(专利权)人: | 富士通株式会社;财团法人神奈川科学技术研究院 |
| 主分类号: | G11B5/855 | 分类号: | G11B5/855;G11B5/82 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 孙海龙 |
| 地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
1.一种制造磁记录介质的方法,所述方法包括:
在形成在模子的表面上的凹凸图案上形成金属层;
使用粘合剂将基片结合到金属层的与模子的相反侧的表面;
从所述金属层分离所述模子;
使用将所述模子中的所述凹凸图案转印到所述金属层上形成的凹凸图案作为纳米孔源,通过纳米孔形成处理形成多孔层,在所述多孔层中,在朝向基本垂直于基片平面的方向上形成多个纳米孔;以及
将磁材料填入所述纳米孔中。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述模子中的凹凸图案具有交替布置的岸部分和沟部分。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述金属层由铝形成。
4.根据权利要求1所述的方法,所述方法还包括在所述金属层上形成软磁底层。
5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述基片是玻璃基片、铝基片和硅基片中的至少一个。
6.根据权利要求1所述的方法,其中,所述形成金属层的步骤包括在形成所述金属层之前在所述模子中的凹凸图案上应用脱模剂。
7.根据权利要求1所述的方法,其中,所述脱模剂是含氟表面处理剂和硅烷耦合剂中的至少一个。
8.根据权利要求1所述的方法,其中,所述粘合剂是基于环氧树脂的粘合剂、低硬化收缩型粘合剂、基于改性硅树脂的粘合剂、以及腈基丙烯酸盐粘合剂中的至少一个。
9.根据权利要求1所述的方法,其中,通过利用上推机构从所述模子侧上推中心具有开口的基片的内围边缘来执行所述分离模子的步骤。
10.根据权利要求1所述的方法,所述方法还包括:在形成所述多孔层的步骤之前并在分离所述模子的步骤之后,将第二金属层结合到与所述基片的到所述金属层的结合表面的相反侧的表面上,以及从所述第二金属层分离所述模子,其中,所述第二金属层通过形成所述金属层的步骤预先形成在模子上。
11.根据权利要求1所述的方法,其中,对多个基片集体执行所述形成金属层的步骤、所述结合基片的步骤以及所述分离模子的步骤。
12.根据权利要求1所述的方法,所述方法还包括:在填充所述磁材料的步骤以后,对所述多孔层的表面进行抛光。
13.一种磁记录介质,所述磁记录介质包括:
基片;
所述基片上的粘合剂层;以及
所述粘合剂层上的多孔层,
其中,所述多孔层包括朝向基本垂直于所述基片的平面的方向上的多个纳米孔,以及
其中,所述纳米孔中包括磁材料。
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