[发明专利]磁盘装置有效

专利信息
申请号: 200810001346.8 申请日: 2008-01-09
公开(公告)号: CN101241704A 公开(公告)日: 2008-08-13
发明(设计)人: 望月正文;清水幸也;西田周治 申请(专利权)人: 日立环球储存科技荷兰有限公司
主分类号: G11B5/31 分类号: G11B5/31;G11B5/73
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 李涛;钟强
地址: 荷兰阿*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 磁盘 装置
【权利要求书】:

1.一种磁盘装置包括:

用于垂直磁记录的磁盘,具有磁记录层和在所述磁记录层下面的底层,以及还包括凹槽和平台,用于限定所述磁记录层和所述底层的至少一个上的磁道宽度;以及

用于垂直磁记录的磁头,具有主磁极、辅助磁极以及侧屏蔽,该侧屏蔽位于所述主磁极的跨磁道方向的两侧上并由磁性物质制成;其由

用于限定所述磁道宽度的所述主磁极的宽度、和在所述主磁极与所述主磁极两侧上的所述侧屏蔽之间的两个侧间隙的宽度总和,不超过所述平台的宽度和所述平台两侧上的凹槽宽度的总和。

2.根据权利要求1的磁盘装置,其中所述两个侧屏蔽的各个尾侧端之间的距离不超过所述平台的宽度和所述平台两侧上的所述凹槽宽度的总和。

3.根据权利要求1的磁盘装置,其中所述两个侧屏蔽的各个前侧端之间的距离不超过所述平台的宽度和所述平台两侧上的所述凹槽宽度的总和。

4.根据权利要求1的磁盘装置,其中

所述磁头与磁道的斜交角的最大角度由S表示,

从所述侧屏蔽之一的侧屏蔽的前侧端至位于其相对拐角上的所述另一侧屏蔽的内侧端的距离由L1表示,

所述L1以所述最大斜交角度S投影在所述磁道宽度方向上的线的长度由L1’表示,

所述平台的宽度和所述平台两侧上的所述凹槽的宽度的总和由L2表示,以及

所述L2不小于所述L1’。

5.根据权利要求1的磁盘装置,其中所述底层是软磁底层。

6.根据权利要求1的磁盘装置,其中,所述底层是非磁性层,并且所述磁记录层具有用于限定所述磁道宽度的凹槽和平台。

7.根据权利要求1的磁盘装置,其中在所述磁记录层上可以设置凹面和凸面,用于在比特位方向上形成记录比特位。

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