[发明专利]无弧斑的真空电弧离子镀膜技术

权利要求书

1.一种无弧斑的真空电弧离子镀膜方法，其特征是以无弧斑的真 空电弧等离子体蒸发离化源，作为被镀工件的镀料供给源，将它安置 在真空度为10-10^-3Pa的真空镀膜室内，室的内壁作为无弧斑真空电 弧的阳极，也可在真空室内专设一辅助阳极，可将此辅助阳极与室内 壁相连接，共同作为阳极，也可不连接，内壁不作阳极，上述镀料供 给源作为无弧斑真空电弧的阴极，该阴极通常是具有圆形断面的圆柱 形阴极，也可以用任意形断面的阴极，也可以用盛于坩埚内的液态阴 极，配置大直流电流电源，达2000A，通电后，在这种大电流加热条 件下，使阴极区从有斑冷阴极电弧向无斑热阴极扩散型电弧转化，无 弧斑的真空电弧阴极所产生的无液滴、高电离度、高密度的金属蒸汽 等离子体射向阴极对面的工件，而在工件上施加负偏置电压，则实现 了符合离子镀定义的规范的离子镀膜过程。

2.根据权利要求1所涉及的一种无弧斑的真空电弧离子镀膜方 法，被镀工件是运动着的工业用钢带，在一个真空镀膜室内设置2台 或2台以上无弧斑的真空电弧等离子体蒸发离化源，分别对钢带正、 反面镀膜，从而在一个真空镀膜室内实现钢带双面镀膜技术。

3.根据权利要求1所涉及的一种无弧斑的真空电弧离子镀膜方 法，被镀工件是悬挂在转架上的金属件，在真空镀膜室内设置1台或 多台无弧斑的真空电弧等离子体蒸发离化源，对相对于该源公转和自 转的转架上的工件，实现工件全面积均匀镀膜。

4.根据权利要求1所涉及的一种无弧斑的真空电弧离子镀膜方 法，被镀镀料的金属种类是Ti沸点高于1500°k的金属。

5.根据权利要求1所涉及的一种无弧斑的真空电弧离子镀膜方 法，无弧斑的真空电弧离子镀膜过程中，真空镀膜室的气氛是Ar， 或N₂，或O₂，或C₂H₂气体，或其混合气体。