[发明专利]包括具有反射涂层的镜元件的投射物镜

权利要求书

1.一种光学系统，包括：

多个元件，布置用于将波长λ的辐射从物面中的物场成像到像面中的像场；

所述元件包括镜元件，该镜元件具有布置在辐射路径的由反射涂层形成的反射表面；

所述镜元件中的至少一个具有在一个或多个位置偏离最佳拟合旋转对称反射表面约λ以上的非旋转对称反射表面；

所述元件包括切趾校正元件，相对于不具有该切趾校正元件的光学系统，该切趾校正元件有效地校正该光学系统的出瞳中的空间强度分布。

2.如权利要求1所述的光学系统，其中，相对于不具有该切趾校正元件的光学系统，所述切趾校正元件有效地增加所述出瞳中的空间强度分布的对称性。

3.如权利要求1或2所述的光学系统，其中，相比较不具有该切趾校正元件的相同光学系统，所述切趾校正元件有效地增加所述出瞳中的强度分布的旋转对称性。

4.如权利要求3所述的光学系统，其中，所述出瞳中的空间强度分布由表示所述出瞳的边缘中的强度的归一化方位变化的切趾参数APO表征，根据：

APO＝(I_MAX-I_MIN)/(I_MAX+I_MIN)

其中，I_MAX为所述出瞳的边缘区域中的强度的最大值，和I_MIN为所述出瞳的边缘区域中的强度的最小值，

其中所述切趾参数APO减少至少1％。

5.如前述权利要求之一所述的光学系统，其中，当与不具有所述切趾元件的相同光学系统相比较时，所述切趾校正元件有效地增加相对所述光学系统的子午平面的所述出瞳中的强度分布的镜对称性。

6.如前述权利要求之一所述的光学系统，其中，当与不具有所述切趾元件的相同光学系统相比较时，所述切趾校正元件有效地减少场依赖切趾。

7.如前述权利要求之一所述的光学系统，其中，当与不具有所述切趾元件的相同光学系统相比较时，所述切趾校正元件有效地将所述出瞳中的强度分布的强度中心朝向所述出瞳的中心移动。

8.如前述权利要求之一所述的光学系统，其中，所述切趾校正元件是具有由反射涂层形成的反射面的镜元件，所述反射涂层设计为非旋转对称渐变涂层，该非旋转对称渐变涂层包括不同材料的多层叠层，至少一层具有几何层厚，该几何层厚在涂层的第一方向上根据第一渐变方程变化而在垂直于所述第一方向的第二方向上根据不同于所述第一渐变方程的第二渐变方程变化。

9.如前述权利要求之一所述的光学系统，其中，所述切趾校正元件是具有由反射涂层形成的反射表面的镜元件，该反射涂层包括不同材料层的多层叠层，所述层在背向镜基底的辐射入口侧上具有帽层，其中所述帽层具有在所述涂层的第一方向上根据第一渐变方程变化而在垂直于所述第一方向的第二方向上根据不同于所述第一渐变方程的第二渐变方程变化的几何层厚。

10.如权利要求9所述的光学系统，其中，所述几何层厚在第一方向上从原点到所述镜的边缘增加第一增量，并在所述第二方向上在所述原点和边缘区域之间增加显著较大的第二增量。

11.如权利要求9或10所述的光学系统，其中，所述帽层的层厚在中心区内大致均匀，所述中心区围绕原点，至少上至与对应于第一子孔径的区域的外边缘相应的径向坐标，第一子孔径对应于中心场点，且在所述中心区外，所述帽层的层厚在所述第一方向上略微增加并在所述第二方向上较强增加。

12.如权利要求11所述的光学系统，其中，所述中心区在相应方向上延展到大于距原点最大径向距离的50％。

13.如权利要求9至12之一所述的光学系统，其中，所述帽层由选自由钌、氧化铝、碳化硅、碳化钼、碳、氮化钛、二氧化钛和钌、氧化铝、氮化钛或二氧化钛和其他物质的混合物、合金或化合物构成的组的材料制成。

14.如权利要求9至13之一所述的光学系统，其中，反射涂层包括布置在所述帽层和镜基底之间的多个中间层，其中所述多个中间层中的每一个都具有均一层厚。

15.如权利要求9至14之一所述的光学系统，其中，所述帽层的材料对波长λ的辐射具有吸收率，该吸收率大于布置在所述帽层和镜基底之间的中间层的材料中的每一个的吸收率。