[发明专利]FIC设备以及在过压范围内运行FIC设备的方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种FIC设备以及在过压范围内运行这种FIC设备 的方法。

背景技术

静止的燃气涡轮机或者飞机涡轮机的燃气涡轮机构件在使用后 要检修，其中必须将氧化物从这些构件的裂缝中去除，以便能够对这 些构件进行维修。

在此运用所谓的FIC方法(Fluoridionen-Cleaning(氟离子清 洗))。

在此将构件送到反应室中，然后将反应气体例如卤素气体导入到 反应室中，而后出现氧化物与反应气体之间的反应，由此将氧化物从 构件上去除。

发明内容

因此，本发明的任务是，说明一种FIC设备以及一种用于运行 FIC设备的方法，该方法使得化学反应得到强化并且使得清洗作用得 到改进。

该任务通过按权利要求1所述的FIC设备以及按权利要求7所述 的方法得到解决。

在从属权利要求中列出其它有利的措施，这些措施能够任意地相 互组合以用于获得其它的优点。

附图说明

其中：

图1是FIC设备，

图2-5是FIC设备内部的压力示范性的时间分布，

图6、7是清洗方法的流程的示意图，

图8是燃气涡轮机，

图9是涡轮叶片的透视图，并且

图10是燃烧室的透视图。

具体实施方式

在图1中示意性地示出了FIC设备1。该FIC设备1至少包括反 应室10，在该反应室10中能够放入至少一个构件4、120、130、155 (图8、9、10)。

所述构件4、120、130、155具有主要存在于裂缝中的氧化产物 和/或腐蚀产物。所述氧化产物和腐蚀产物也经常作为层区域 (Schichtbereich)而存在。

通过阀13或者说泵13能够将反应气体或者反应混合物、优选将 卤化物最好是氟化氢(HF)导入到反应室10中，从而能够在那里在 反应气体与构件4、120、130、155上的有待去除的氧化产物和/或腐 蚀产物之间进行反应。按本发明，如此设计FIC设备，从而借助于 器件13能够将压力p调节得比大气压p_at(在常温下约等于1.01bar) 大。

过压范围是指至少大于大气压p_at尤其大于1.1bar(＝110kPa)的 压力。

优选反应室10中的最大过压为1.4bar(140kPa)。

在此反应室10具有用作器件13的密封件，以便反应气体7在过 压范围内不会从反应室10中逸出。

作为替代方案或者补充方案，存在着阀13，该阀13对反应室10 中的压力进行调节，因为反应气体的供应机构7具有过压，也就是说 具有示范性地使用的氟化氢(HF)的压力容器表面具有大于大气压 尤其大于1.4bar的过压，从而必须对来自这个压力容器的压力进行 调节。

优选所述装置1作为器件包含泵13，如此设计该泵13，使得其 能够在反应室10中产生过压。

在下列表格中以及在图2到5中示出了优选用FIC设备1实施的 清洗方法的示范性的时间分布。