[发明专利]调整参数来增加基于激光的晶片处理期间中的产量的系统和方法

权利要求书

1.一种自动修正基于激光的系统的方法，所述系统用以处理目标样本， 所述方法包括：

使用与第一处理模型相关联的系统参数来操作所述基于激光的系统以处 理第一组目标样本；

侦测和所述基于激光的系统的所述第一处理模型相关联的触发信号，所述 第一处理模型将所述触发信号与以在所述基于激光的系统的产量与精确性的 至少一个的变化关联；

依据所述第一处理模型而响应于所述触发信号且无使用者输入，来自动调 整所述系统参数的一项或多项；以及

使用一项或多项经调整的所述系统参数来操作所述基于激光的系统，用以 选择性地照射位於所述第一组目标样本中的至少一个目标样本之上或之内的 结构，

其中，所述基于激光的系统包括运动平台，并且其中，侦测所述触发信号 包括：侦测和所述运动平台有关的热状态变异，

其中，调整所述系统参数的一项或多项包括：

操作所述运动平台，用以将所述基于激光的系统的热状态调整至预设的热 均衡临界条件内；

选择对应于所述第一组目标样本的运动变化轮廓的预热运动序列；以及

在选择性辐射所述结构之前，根据所述选定的预热运动序列来操作所述运 动平台，直到所述热状态抵达所述热均衡临界条件为止。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一处理模型是以所述基于 激光的系统的产量及所述基于激光的系统的精确性之间的取舍为基础。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，侦测所述热状态变异包括：测量 所述基于激光的系统的热飘移。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，侦测所述热状态变异包括：判断 所述运动平台已经闲置一段预设的时间。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，侦测所述热状态变异包括：接收 命令，用以从第二处理模型切换至所述第一处理模型，并且其中，所述第二处 理模型是对应于第二组目标样本。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述第一处理模型包括：用于控 制所述运动平台的第一运动变化轮廓，其中，所述第二处理模型包括用于控制 所述运动平台的第二运动变化轮廓，并且其中，所述第一运动变化轮廓会导致 所述运动平台所产生的热量不同于由所述第二运动变化轮廓导致所述运动平 台所产生的热量。

7.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：操作激光源，用以进一 步调整所述基于激光的系统的热状态。

8.根据权利要求7所述的方法，其进一步包括：当操作所述运动平台以 将所述基于激光的系统的热状态调整至所述预设的热均衡临界条件内时，阻隔 来自所述激光源的激光射束，用以防止处理所述结构。

9.根据权利要求7所述的方法，其进一步包括：当操作所述运动平台以 将所述基于激光的系统的热状态调整至预设的热均衡临界条件内时，不聚焦来 自所述激光源的激光射束。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，使用所述一项或多项经调整系统 参数来操作所述基于激光的系统以便选择性照射所述结构包括：在选择性照射 所述结构时继续操作所述运动平台，用以将所述基于激光的系统的热状态保持 在所述预设的热均衡临界条件内。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，侦测所述触发信号包括：判断所 述基于激光的系统的使用者定义的硬件配置的变化，其中，所述第一处理模型 包括比较所述基于激光的系统的产量与所述基于激光的系统的精确性，所述比 较是以所述使用者定义的硬件配置为基础。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述第一处理模型配置成用以 通过调整所述一项或多项系统参数来修正所述产量，以便达成预设的精确性。

13.根据权利要求11所述的方法，其进一步包括：判断对应于所述第一 组目标样本的使用者定义的运动变化轮廓参数的变化，其中，比较所述产量与 所述精确性是以所述预设的运动变化轮廓参数为基础。