[发明专利]稳定化的浓缩清洗液及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200780053290.4 申请日: 2007-07-17
公开(公告)号: CN101679921A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: S·布拉古拉 申请(专利权)人: 埃科莱布有限公司
主分类号: C11D7/06 分类号: C11D7/06;C11D7/28;C11D7/32
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王 健
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 稳定 浓缩 清洗 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.稳定化的浓缩清洗液,其包含:

(i)1wt%-40wt%氢氧根离子源;

(ii)5wt%-80wt%次氯酸根离子源;和

(iii)0.0001wt%-2.00wt%螯合剂,

其中所述螯合剂是亚乙基二胺四乙酸、甲基甘氨酸二乙酸、次氨 基三乙酸、亚氨基二琥珀酸盐、聚丙烯酸盐或它们的组合。

2.权利要求1的稳定化的浓缩清洗液,其包含

(i)5wt%-35wt%氢氧根离子源;

(ii)20wt%-70wt%次氯酸根离子源;和

(iii)0.0002wt%-0.5wt%螯合剂。

3.权利要求2的稳定化的浓缩清洗液,其中所述螯合剂是亚乙基 二胺四乙酸、甲基甘氨酸二乙酸、次氨基三乙酸或它们的组合。

4.权利要求1的稳定化的浓缩清洗液,其中所述氢氧根离子源包 括氢氧化钠、氢氧化钾或它们的组合。

5.权利要求1的稳定化的浓缩清洗液,其中所述次氯酸根离子源 包括次氯酸钠、次氯酸钾或它们的组合。

6.权利要求1的稳定化的浓缩清洗液,其包含:

(i)15wt%-30wt%氢氧根离子源;

(ii)40wt%-60wt%次氯酸根离子源;和

(iii)0.0005wt%-0.05wt%螯合剂。

7.权利要求6的稳定化的浓缩清洗液,其中所述氢氧根离子源包 括氢氧化钠、氢氧化钾或它们的组合。

8.权利要求6的稳定化的浓缩清洗液,其中所述次氯酸根离子源 包括次氯酸钠。

9.权利要求6的稳定化的浓缩清洗液,其中所述螯合剂是亚乙基 二胺四乙酸。

10.使含氧化剂的浓缩清洗液稳定化的方法,所述方法包括:

(i)提供含5wt%-80wt%次氯酸根离子源的浓缩清洗液;

(ii)提供螯合剂,其中所述螯合剂是亚乙基二胺四乙酸、甲基 甘氨酸二乙酸、次氨基三乙酸、亚氨基二琥珀酸盐、聚丙烯酸盐或它 们的组合,和其中按提供0.0001wt%-2.00wt%的螯合剂在清洗液中的 最终浓度的量将所述螯合剂添加到所述清洗液中;和

(iii)将所述螯合剂添加到所述浓缩清洗液中。

11.权利要求10的方法,其中所述次氯酸根离子源包括次氯酸钠、 次氯酸钾或它们的组合。

12.权利要求10的方法,其中按提供0.0002wt%-0.5wt%的螯合剂 在清洗液中的最终浓度的量将所述螯合剂添加到所述清洗液中。

13.权利要求12的方法,其中按提供0.0005wt%-0.05wt%的螯合 剂在清洗液中的最终浓度的量将所述螯合剂添加到所述清洗液中。

14.权利要求10的方法,其中所述螯合剂是亚乙基二胺四乙酸、 甲基甘氨酸二乙酸、次氨基三乙酸或它们的组合。

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