[发明专利]曝光方法及曝光装置

权利要求书

1.一种曝光方法，将绘有图形的光掩模配置于对表面形成有感光层 的基板的感光层进行覆盖的位置上，在使所述光掩模与所述基板互相均匀 接触后，使光通过所述光掩模并照射到所述基板的感光层上，从而将所述 图形转印到所述基板上，其特征在于，

准备整体呈四边形且具有互相对置的第一对侧缘部和互相对置的第 二对侧缘部的板状的基板支承构件，

以使所述感光层与所述光掩模的绘有所述图形的表面相对置的方式， 将所述基板在不产生相对错位的状态下固定支承于所述基板支承构件的 主面上，

使所述基板支承构件以沿与所述第一对侧缘部相同的方向延伸的第 一轴为中心、或以沿与所述第二对侧缘部相同的方向延伸的第二轴为中 心，独立地一边控制弯曲量一边弯曲，从而使所述基板支承构件与所述基 板一起变形为期望的弯曲形状，

在所述光掩模与所述基板互相均匀接触，并且所述基板支承构件及所 述基板变形为所述期望的弯曲形状的状态下，使光通过所述光掩模而照射 到所述感光层上，从而使所述图形的尺寸实质性变化而转印到所述基板 上。

2.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，

在使所述基板支承构件以所述第一轴为中心、或以所述第二轴为中心 弯曲时，在分别沿着所述第一轴及第二轴的多个位置分别控制所述基板支 承构件的弯曲量。

3.根据权利要求1所述的曝光方法，其中，

以所述第一轴为中心的所述基板支承构件的弯曲是通过使力或力矩 作用于所述第一对侧缘部而进行的，以所述第二轴为中心的弯曲是通过使 力或力矩作用于所述第二对侧缘部而进行的。

4.根据权利要求1所述的曝光方法，其中，

在所述光掩模和所述基板的互相对应的位置处分别设有多个对准标 记，利用标记检测机构检测该对准标记，基于检测的数据，计算所述光掩 模的所述对准标记和所述基板的所述对准标记间的间距的偏差量，根据该 计算结果控制所述基板支承构件的弯曲量。

5.根据权利要求4所述的曝光方法，其中，

所述标记检测机构为CCD照相机。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的曝光方法，其中，

在所述光掩模上较大地制作所述图形，在曝光时，通过使所述基板支 承构件和所述基板一起相对于所述光掩模弯曲为凸状，从而将所述基板的 形成有所述感光层的面的尺寸实质性地扩大而形成为规定的大小，并且， 通过使所述光掩模仿形于所述基板，使所述图形的尺寸实质性地缩小而形 成为规定的大小，然后，将所述图形转印到所述基板上。