[发明专利]在超临界条件下的聚合物制备无效
| 申请号: | 200780050613.4 | 申请日: | 2007-11-21 |
| 公开(公告)号: | CN101595137A | 公开(公告)日: | 2009-12-02 |
| 发明(设计)人: | G·L·卡斯蒂;R·A·库克;G·基斯;P·布兰特 | 申请(专利权)人: | 埃克森美孚化学专利公司;埃克森美孚研究工程公司 |
| 主分类号: | C08F10/06 | 分类号: | C08F10/06;C08F2/06;C08F4/62 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 夏正东 |
| 地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 临界 条件下 聚合物 制备 | ||
1.使烯烃聚合的方法,包括在60℃至180℃的温度和 15MPa-1500MPa的压力下使含三个或更多碳原子的一种或多种烯烃单 体与以下物质接触:
1)包含一种或多种活化剂和一种或多种非金属茂型金属为中心的 杂芳基配体催化剂化合物的催化剂体系,所述催化剂化合物由以下通 式I或II表示:
通式I
其中
M是锆或铪;
L1和L2独立地选自卤代、烷基、取代的烷基、环烷基、取代的环 烷基、杂烷基、取代的杂烷基、杂环烷基、取代的杂环烷基、芳基、 取代的芳基、杂芳基、取代的杂芳基、烷氧基、芳氧基、羟基、硼基、 甲硅烷基、氨基、胺、氢、烯丙基、二烯、硒代、膦基、膦、羧酸根、 硫代、1,3-二酮根、草酸根、碳酸根、硝酸根、硫酸根和这些基团的 组合;
R4、R5和R6独立地选自氢、烷基、取代的烷基、环烷基、取代的 环烷基、杂烷基、取代的杂烷基、杂环烷基、取代的杂环烷基、芳基、 取代的芳基、杂芳基、取代的杂芳基、烷氧基、芳氧基、甲硅烷基、 硼基、膦基、氨基、硫代、硒代、硝基和它们的组合,任选地,两个 或更多个R4、R5和R6可以接合以形成除吡啶环之外的含3-50个非氢 原子的稠环体系,或任选地,R2、R3和R4的任何组合可以一起结合在 环结构中;
R1由以下通式表示:
其中
E选自碳和氮;
Q1和Q5是环上的但不是对原子E的取代基,其中Q1或Q5中至少一 个具有至少2个原子;
q是1、2、3、4或5;
Q″选自氢、烷基、取代的烷基、环烷基、取代的环烷基、杂烷基、 取代的杂烷基、杂环烷基、取代的杂环烷基、芳基、取代的芳基、杂 芳基、取代的杂芳基、烷氧基、芳氧基、甲硅烷基、硼基、膦基、氨 基、硫代、硒代、卤代、硝基和它们的组合;
T是选自-CR2R3-和-SiR2R3-的桥联基;及R2和R3选自氢、烷基、 取代的烷基、环烷基、取代的环烷基、杂烷基、取代的杂烷基、杂环 烷基、取代的杂环烷基、芳基、取代的芳基、杂芳基、取代的杂芳基、 烷氧基、芳氧基、甲硅烷基、硼基、膦基、氨基、硫代、硒代、卤代、 硝基和它们的组合;
E″是碳或氮并且是环状芳基、取代的芳基、杂芳基或取代的杂芳 基的一部分;或
其中Q2,Q3,Q4,R2,R3,R4*,R5*,R6*,和R7独立地选自氢、烷基、 取代的烷基、环烷基、取代的环烷基、杂烷基、取代的杂烷基、杂环 烷基、取代的杂环烷基、芳基、取代的芳基、杂芳基、取代的杂芳基、 烷氧基、芳氧基、甲硅烷基、硼基、膦基、氨基、硫代、硒代、硝基 和它们的组合,
任选地,两个或更多个R4*,R5*,R6*,和R7可以接合以形成除吡啶 环之外的含3-50个非氢原子的稠环体系,并且
任选地,R2,R3,R4*的任何组合可以一起结合在环结构中;
Q1*和Q5*选自烷基、取代的烷基、环烷基、取代的环烷基、芳基、 取代的芳基,条件是Q1*和Q5*不同时是甲基;和
每个L独立地选自卤代、烷基、取代的烷基、环烷基、取代的环 烷基、杂烷基、取代的杂烷基、杂环烷基、取代的杂环烷基、芳基、 取代的芳基、杂芳基、取代的杂芳基、烷氧基、芳氧基、羟基、硼基、 甲硅烷基、氨基、胺、氢、烯丙基、二烯、硒代、膦基、膦、羧酸根、 硫代、1,3-二酮根、草酸根、碳酸根、硝酸根、硫酸根和这些基团的 组合;
n是1、2或3;和
x=1或2;
2)非必要的一种或多种共聚单体,
3)非必要的稀释剂或溶剂,和
4)非必要的清除剂,
其中:
a)所述烯烃单体和任何共聚单体以40wt%或更多存在于聚合体系 中,
b)所述含三个或更多碳原子的单体以80wt%或更多存在,基于原 料中存在的所有单体和共聚单体的重量,和
c)所述聚合在大于聚合体系的固体-流体相转变温度的温度和不 低于聚合体系的浊点压力以下2MPa以及小于1500MPa的压力下进行, 如果不能测定所述聚合体系的固体-流体相转变温度,则聚合在比流体 -流体相转变温度大的温度下进行。
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